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Parylene高频电路防护工艺研究进展
Parylene高频电路防护工艺研究进展
作者:
仝晓刚
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
Parylene
电路防护
化学气象沉积
沉积压力
摘要:
从前处理、升华温度、裂解温度、沉积压力、基体温度和膜层厚度等方面讨论了Parylene处理技术在国内外高频电路防护方面的应用概况。重点介绍了这些工艺要素与Parylene膜层性能的相关性,并指出了膜层厚度及均匀度是影响高频电路防护的关键因素,膜层厚度需要通过试验进行确定,简要论述了Parylene膜层的沉积机理与Parylene处理技术在毫米波电路防护上应用的工艺流程。同时指出了Parylene处理技术在高频电路防护应用中存在的不足之处,为以后的研究指明了方向。
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文献信息
篇名
Parylene高频电路防护工艺研究进展
来源期刊
电子工艺技术
学科
工学
关键词
Parylene
电路防护
化学气象沉积
沉积压力
年,卷(期)
2011,(5)
所属期刊栏目
微组装
研究方向
页码范围
272-276
页数
分类号
TN605
字数
4874字
语种
中文
DOI
10.3969/j.issn.1001-3474.2011.05.007
五维指标
作者信息
序号
姓名
单位
发文数
被引次数
H指数
G指数
1
仝晓刚
中国电子科技集团公司第十研究所
8
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被引次数趋势
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引文网络
引文网络
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研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
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期刊影响力
电子工艺技术
主办单位:
中国电子科技集团公司第二研究所
出版周期:
双月刊
ISSN:
1001-3474
CN:
14-1136/TN
开本:
大16开
出版地:
太原市115信箱
邮发代号:
22-52
创刊时间:
1980
语种:
chi
出版文献量(篇)
2306
总下载数(次)
10
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