磁控溅射法制备NiZnCo铁氧体磁性薄膜的工艺研究

• 作者: 徐小玉 黄之德
• 来源期刊: 真空
• 学科: 工学
• 关键词: 铁氧体薄膜 磁控溅射 溅射功率
• 年，卷（期）: 2012,（5）
• 所属期刊栏目: 薄膜
• 页码范围: 39-41
• 页数: 3页
• 分类号: TM277
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1002-0322.2012.05.011

摘要

采用磁控溅射在硅晶基体上制备NiZnCo铁氧体磁性薄膜,研究了溅射功率对溅射(沉积)速率和微观形貌的影响规律:随着溅射功率由80W增大到150W,薄膜的沉积速率增大；薄膜却由整齐均匀分布的小颗粒状向片状结构变化,分布也不均匀,晶粒明显长大.由此确定最佳溅射功率为120 W,薄膜的微观形貌最理想,溅射(沉积)速率也很快.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	黄之德		22	54	5.0	5.0
2	徐小玉		10	39	2.0	6.0