基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取       
摘要:
比较研究了Si面、C面SiC外延石墨烯以及CVD石墨烯的硝酸掺杂效应.结果表明对C面SiC外延石墨烯和CVD石墨烯,硝酸掺杂显现出p型掺杂特性使其方阻降低,这是由于硝酸与石墨烯氧化还原反应过程中电荷转移所导致;而对于Si面SiC外延石墨烯,硝酸掺杂则显现出n型掺杂特性使其方阻增大,这种异常掺杂效应是由于硝酸与石墨烯发生氧化还原反应释放出的热量使悬挂键吸附的氧脱附,增强了石墨烯与衬底之间的耦合效应,从而使得电子浓度增大,电子的迁移率显著减小.
推荐文章
光电化学刻蚀方法去除SiC衬底外延石墨烯缓冲层及其表征
石墨烯
合成
碳化硅
缓冲层
电化学
光化学
Si面4H-SiC衬底上外延石墨烯近平衡态制备
生长
外延石墨烯
平衡态
晶体质量
Si和6H-SiC衬底上β-FeSi2薄膜的制备
β-FeSi2薄膜
6H-SiC衬底
Si衬底
磁控溅射
Ti掺杂6H-SiC电学性质研究
物理气相传输
Ti掺杂
6H-SiC
电阻率
内容分析
关键词云
关键词热度
相关文献总数  
(/次)
(/年)
文献信息
篇名 Si面6H-SiC衬底外延石墨烯的异常硝酸掺杂效应
来源期刊 电子元件与材料 学科 工学
关键词 热裂解SiC 外延石墨烯 硝酸掺杂 方阻 电荷转移 氧脱附
年,卷(期) 2013,(7) 所属期刊栏目 研究与试制
研究方向 页码范围 14-17
页数 4页 分类号 TN305.3
字数 2843字 语种 中文
DOI 10.3969/j.issn.1001-2028.2013.07.004
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 郝昕 电子科技大学电子薄膜与集成器件国家重点实验室 5 20 2.0 4.0
2 王泽高 电子科技大学电子薄膜与集成器件国家重点实验室 3 54 2.0 3.0
3 刘竞博 电子科技大学电子薄膜与集成器件国家重点实验室 1 2 1.0 1.0
4 田洪军 电子科技大学电子薄膜与集成器件国家重点实验室 1 2 1.0 1.0
传播情况
(/次)
(/年)
引文网络
引文网络
二级参考文献  (0)
共引文献  (0)
参考文献  (16)
节点文献
引证文献  (2)
同被引文献  (0)
二级引证文献  (0)
2004(1)
  • 参考文献(1)
  • 二级参考文献(0)
2005(1)
  • 参考文献(1)
  • 二级参考文献(0)
2007(2)
  • 参考文献(2)
  • 二级参考文献(0)
2008(1)
  • 参考文献(1)
  • 二级参考文献(0)
2009(2)
  • 参考文献(2)
  • 二级参考文献(0)
2010(6)
  • 参考文献(6)
  • 二级参考文献(0)
2011(3)
  • 参考文献(3)
  • 二级参考文献(0)
2013(1)
  • 参考文献(0)
  • 二级参考文献(0)
  • 引证文献(1)
  • 二级引证文献(0)
2013(1)
  • 引证文献(1)
  • 二级引证文献(0)
2017(1)
  • 引证文献(1)
  • 二级引证文献(0)
研究主题发展历程
节点文献
热裂解SiC
外延石墨烯
硝酸掺杂
方阻
电荷转移
氧脱附
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
电子元件与材料
月刊
1001-2028
51-1241/TN
大16开
成都市一环路东二段8号宏明商厦702室
62-36
1982
chi
出版文献量(篇)
5158
总下载数(次)
16
总被引数(次)
31758
论文1v1指导