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Si面6H-SiC衬底外延石墨烯的异常硝酸掺杂效应
Si面6H-SiC衬底外延石墨烯的异常硝酸掺杂效应
作者:
刘竞博
王泽高
田洪军
郝昕
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
热裂解SiC
外延石墨烯
硝酸掺杂
方阻
电荷转移
氧脱附
摘要:
比较研究了Si面、C面SiC外延石墨烯以及CVD石墨烯的硝酸掺杂效应.结果表明对C面SiC外延石墨烯和CVD石墨烯,硝酸掺杂显现出p型掺杂特性使其方阻降低,这是由于硝酸与石墨烯氧化还原反应过程中电荷转移所导致;而对于Si面SiC外延石墨烯,硝酸掺杂则显现出n型掺杂特性使其方阻增大,这种异常掺杂效应是由于硝酸与石墨烯发生氧化还原反应释放出的热量使悬挂键吸附的氧脱附,增强了石墨烯与衬底之间的耦合效应,从而使得电子浓度增大,电子的迁移率显著减小.
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文献信息
篇名
Si面6H-SiC衬底外延石墨烯的异常硝酸掺杂效应
来源期刊
电子元件与材料
学科
工学
关键词
热裂解SiC
外延石墨烯
硝酸掺杂
方阻
电荷转移
氧脱附
年,卷(期)
2013,(7)
所属期刊栏目
研究与试制
研究方向
页码范围
14-17
页数
4页
分类号
TN305.3
字数
2843字
语种
中文
DOI
10.3969/j.issn.1001-2028.2013.07.004
五维指标
作者信息
序号
姓名
单位
发文数
被引次数
H指数
G指数
1
郝昕
电子科技大学电子薄膜与集成器件国家重点实验室
5
20
2.0
4.0
2
王泽高
电子科技大学电子薄膜与集成器件国家重点实验室
3
54
2.0
3.0
3
刘竞博
电子科技大学电子薄膜与集成器件国家重点实验室
1
2
1.0
1.0
4
田洪军
电子科技大学电子薄膜与集成器件国家重点实验室
1
2
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2017(1)
引证文献(1)
二级引证文献(0)
研究主题发展历程
节点文献
热裂解SiC
外延石墨烯
硝酸掺杂
方阻
电荷转移
氧脱附
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
电子元件与材料
主办单位:
中国电子学会
中国电子元件行业协会
国营第715厂(成都宏明电子股份有限公司)
出版周期:
月刊
ISSN:
1001-2028
CN:
51-1241/TN
开本:
大16开
出版地:
成都市一环路东二段8号宏明商厦702室
邮发代号:
62-36
创刊时间:
1982
语种:
chi
出版文献量(篇)
5158
总下载数(次)
16
总被引数(次)
31758
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