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SiGe HBT 60Co γ辐照总剂量效应
SiGe HBT 60Co γ辐照总剂量效应
作者:
刘书焕
刘新赞
张伟
李达
林东升
郭晓强
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
SiGe HBT
γ辐射
总剂量效应
电流增益
损伤系数
摘要:
测量了SiGe HBT直流增益在60Co γ辐照过程中随剂量及器件电流注入水平的变化.实验结果显示在累计辐照剂量超过5000Gy (Si)后,器件电流增益变化与辐照剂量存在线性反比关系,且增益损伤系数与器件电流注入水平有关;器件在受到总剂量为2.78×104 Gy (Si)辐照后,器件静态基极电流Ib、集电极电流Ic、静态直流增益及最大振荡频率fmax出现不同程度退化;但器件其他电参数如截止频率fγ、交流增益| H21|及结电容(CCBO)与辐照前相比未出现显著退化.利用MEDICI数值模拟分析了SiGe HBT参数退化机理.
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辐射
总剂量效应
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辐照偏置影响深亚微米MOS器件总剂量效应的理论研究
辐照偏置
总剂量效应
MOS器件
解析模型
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内容分析
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文献信息
篇名
SiGe HBT 60Co γ辐照总剂量效应
来源期刊
半导体技术
学科
工学
关键词
SiGe HBT
γ辐射
总剂量效应
电流增益
损伤系数
年,卷(期)
2014,(10)
所属期刊栏目
可靠性
研究方向
页码范围
779-783,799
页数
分类号
TN322.8
字数
语种
中文
DOI
10.13290/j.cnki.bdtjs.2014.10.012
五维指标
作者信息
序号
姓名
单位
发文数
被引次数
H指数
G指数
1
张伟
清华大学微电子研究所
180
2989
27.0
49.0
2
林东升
6
18
3.0
4.0
3
刘新赞
5
16
2.0
4.0
4
刘书焕
西安交通大学核科学与技术学院
15
33
4.0
5.0
5
郭晓强
27
152
7.0
11.0
6
李达
8
26
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2014(0)
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节点文献
SiGe HBT
γ辐射
总剂量效应
电流增益
损伤系数
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
半导体技术
主办单位:
中国电子科技集团公司第十三研究所
出版周期:
月刊
ISSN:
1003-353X
CN:
13-1109/TN
开本:
大16开
出版地:
石家庄179信箱46分箱
邮发代号:
18-65
创刊时间:
1976
语种:
chi
出版文献量(篇)
5044
总下载数(次)
38
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