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摘要:
将垂直于栅氧化层/衬底界面方向的反型层电势分布规律近似为耗尽层的电势分布规律,采用WKB近似方法求解薛定谔方程,得到了量子机制下分析MOSFETs反型层的解析模型,进而对Al/SiO2/p-Si MOSFETs能级、子带电子密度和反型层质心进行了模拟计算,并将模拟结果与数值自洽结果进行了比较,模拟结果较好地与数值自洽结果相吻合.
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模糊近似空间
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阈值电压
栅电容
内容分析
关键词云
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文献信息
篇名 基于势阱近似的小尺寸MOSFETs反型层解析模型
来源期刊 固体电子学研究与进展 学科 工学
关键词 金属-氧化物-半导体场效应晶体管 反型层 量子效应 温策尔-克雷默-布里渊方法 解析模型
年,卷(期) 2015,(2) 所属期刊栏目 器件物理与器件模拟
研究方向 页码范围 124-128
页数 5页 分类号 TN386.1
字数 语种 中文
DOI
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 罗春娅 7 14 3.0 3.0
2 徐火希 9 6 1.0 2.0
3 兰志高 2 11 1.0 2.0
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研究主题发展历程
节点文献
金属-氧化物-半导体场效应晶体管
反型层
量子效应
温策尔-克雷默-布里渊方法
解析模型
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
固体电子学研究与进展
双月刊
1000-3819
32-1110/TN
大16开
南京市1601信箱43分箱(南京市中山东路524号)
1981
chi
出版文献量(篇)
2483
总下载数(次)
5
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9851
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