半导体学报(英文版)期刊
出版文献量(篇)
6983
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半导体学报(英文版)

Journal of Semiconductors
曾用名: 半导体学报

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影响因子 0.2430
本学报是由中国电子学会主办,中国科学院半导体研究所承办的学术刊物,报道半导体物理学和半导体科学技术领域内最新的科研成果和技术进展,被EI、CA、SA等收录,在中国科学院、国家科委、中共中央宣传部和国家新闻出版署的期刊评比中多次获奖。主要栏目有:研究快报、研究论文、研究简报、技术进展等。
主办单位:
中国电子学会和中国科学院半导体研究所
期刊荣誉:
中科院优秀期刊二等奖(90)  全国优秀期刊三等奖(92)  全国优秀期刊三等奖(97) 
ISSN:
1674-4926
CN:
11-5781/TN
出版周期:
月刊
邮编:
100083
地址:
北京912信箱
出版文献量(篇)
6983
总下载数(次)
8
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  • 作者:
    发表期刊: 2000年2期
    页码:  105-114
    摘要:
  • 作者:
    发表期刊: 2000年2期
    页码:  115-119
    摘要:
  • 作者: 薛舫时
    发表期刊: 2000年2期
    页码:  120-126
    摘要: 使用Monte Carlo模拟方法和器件振荡特性测试研究了异质谷间转移电子器件的直流隧穿特性和射频振荡性能与器件结构参数之间的关系.理论计算结果与实验数据间吻合得很好.在此基础上提出了通过电...
  • 作者: 吴晓华 廖良生 李宁生 郑祥钦 鲍希茂
    发表期刊: 2000年2期
    页码:  127-131
    摘要: 单晶硅中注入高剂量的C+离子,注入能量为50keV,经高温退火后形成β-SiC沉淀,再经电化学腐蚀形成多孔β-SiC,样品表面蒸上一层半透明的金膜,在正向偏压高于25V时,可以获得波长约为4...
  • 作者: 吴兴龙 唐宁 顾沂 鲍希茂
    发表期刊: 2000年2期
    页码:  132-136
    摘要: 在488nm的Ar+激光激发下,Si覆盖的部分氧化多孔硅(POPS)的光致发光谱(PL)在1.78eV处展示了一个稳定的PL峰,它的强度达到刚制备多孔硅的发光强度.使用X射线衍射、Raman...
  • 作者: 余海生 公延宁 夏冠群 莫金玑
    发表期刊: 2000年2期
    页码:  137-141
    摘要: 从固态组分控制方面,对AlGaAs的常压金属有机物气相外延(AP-MOVPE)生长技术进行了研究.首先,在假定体系中所涉及气体为理想气体的前提下,经理论推导,给出了AlGaAsAP-MOVP...
  • 作者: 刘学锋 孔梅影 李建平 李晋闽 林兰英 黄大定
    发表期刊: 2000年2期
    页码:  142-145
    摘要: 用气态源分子束外延法制备了Si/SiGe/Si npn异质结双极晶体管.晶体管基区Ge组分为0.12,B掺杂浓度为1.5×101 9cm-3, SiGe合金厚度约45nm.直流特性测试表明,...
  • 作者: 刘红侠 郝跃
    发表期刊: 2000年2期
    页码:  146-150
    摘要: 在恒流应力条件下测试了薄栅氧化层的击穿特性,研究了TDDB的击穿机理,讨论了栅氧化层面积对击穿特性的影响.对相关击穿电荷QBD进行了实验测试和分析,研究结果表明:相关击穿电荷QBD除了与氧化...
  • 作者: 刘理天 孙自敏 李志坚
    发表期刊: 2000年2期
    页码:  151-155
    摘要: 建立精确的衬底电流模型是分析MOSFET器件及电路可靠性和进行MOSFET电路设计所必需的.在分析载流子输运的基础上建立了一个常规结构深亚微米MOSFET衬底电流的解析模型,模型公式简单.对...
  • 作者: 张兴 王阳元
    发表期刊: 2000年2期
    页码:  156-160
    摘要: 利用自己开发的二维数值深亚微米SOI器件模拟软件,较为详细地分析了沟道长度小于o.2μm的 SOI器件的阈值电压特性、穿通和击穿特性、亚阈值特性以及直流稳态特性等.通过这些模拟和分析计算,给...
  • 作者: 李文宏 罗晋生
    发表期刊: 2000年2期
    页码:  161-168
    摘要: 提出了基于二维Poisson方程的薄膜SOI降低表面电场(RESURF结构解析物理模型.并在该模型基础上,给出了一种分析薄膜SOI RESURF结构击穿电压的方法.利用这一方法计算了漂移区长...
  • 作者: 尚也淳 张义门 张玉明
    发表期刊: 2000年2期
    页码:  169-173
    摘要: 从理论上对电子辐照在4H-SiC中引入的缺陷数量和各种缺陷能级进行了分析.结果表明,EH6和EH7缺陷能级在4H-SiC中起着有效复合中心的作用.采用SRH模型来估计电子辐照下4H-SiC的...
  • 作者: 刘恩科 李国政 罗晋生 贺朝会
    发表期刊: 2000年2期
    页码:  174-178
    摘要: 分析了影响CMOS SRAM单粒子翻转效应的时间因素,指出不能仅根据临界电荷来判断发生单粒子翻转效应与否,必须考虑器件的恢复时间、反馈时间和电荷收集过程.给出了恢复时间和反馈时间的计算方法,...
  • 作者: 严荣良 任迪远 张国强 艾尔肯 范隆
    发表期刊: 2000年2期
    页码:  179-183
    摘要: 研究了不同偏置条件对PMOS探头样品辐照响应的影响.在-1~1MV/cm的电场范围内,获得了偏置对PMOS剂量计辐照响应灵敏度和线性度的影响规律.利用“空穴陷阱薄层(Hole Traps S...
  • 作者: 侯鸣波 冯晶 刘式墉 李传南 肖步文 谢志元 黄劲松
    发表期刊: 2000年2期
    页码:  184-187
    摘要: 以四苯基二胺衍生物(TPD)为空穴传输材料,以蓝光染料酚基吡啶铍(BePP2)、黄光染料红荧烯(Rubrene)、绿光染料8-羟基喹啉铝(Alq3)分别为蓝、绿、红三基色染料,采用多层结构制...
  • 作者: 周帆 朱洪亮 段俐宏 王圩 田慧良 白云霞 许国阳 颜学进
    发表期刊: 2000年2期
    页码:  188-191
    摘要: 研究了低压MOCVD下生长压力和Fe源/In源摩尔流量比对半绝缘InP电阻率的影响.得到了用LP-MOCVD生长掺Fe半绝缘InP的优化生长条件.在优化生长条件下得到的Fe-InP的电阻率为...
  • 作者: 王向东 王守觉 石林初 陈咏梅
    发表期刊: 2000年2期
    页码:  192-196
    摘要: 以提高生产成品率为目标,利用神经网络的非线性和容错性,对半导体芯片生产过程进行了分析和优化,具体内容如下:(1)使用神经网络方法建立模型,确定生产线上工艺参数和成品率之间的映射关系,构造以工...
  • 作者: 刘建海 屈新萍 徐鸿涛 房华 李炳宗 茹国平
    发表期刊: 2000年2期
    页码:  197-203
    摘要: 为了减小硅化物形成过程中消耗的衬底硅,提出添加非晶Si的新方法,并探索了Co/Si/Ti/Si及Co/Si(×7)/Ti/Si多层薄膜固相反应的两种途径.实验采用四探针、XRD、RBS等多种...
  • 作者: 刘常康 周德俭 潘开林
    发表期刊: 2000年2期
    页码:  204-208
    摘要: 以PBGA焊点形态成形CAD和焊点热疲劳寿命可靠性CAD研究为例,提出SMT焊点形态成形和可靠性一体化设计思想,并对其实现方法进行了分析研究,给出了具体实现步骤和研究结果.

半导体学报(英文版)基本信息

刊名 半导体学报(英文版) 主编 王守武
曾用名 半导体学报
主办单位 中国电子学会和中国科学院半导体研究所  主管单位 中国科学院
出版周期 月刊 语种
eng
ISSN 1674-4926 CN 11-5781/TN
邮编 100083 电子邮箱 jos@semi.ac.cn
电话 010-82304277 网址 www.jos.ac.cn
地址 北京912信箱

半导体学报(英文版)评价信息

期刊荣誉
1. 中科院优秀期刊二等奖(90)
2. 全国优秀期刊三等奖(92)
3. 全国优秀期刊三等奖(97)

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