半导体学报(英文版)期刊
出版文献量(篇)
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半导体学报(英文版)

Journal of Semiconductors
曾用名: 半导体学报

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影响因子 0.2430
本学报是由中国电子学会主办,中国科学院半导体研究所承办的学术刊物,报道半导体物理学和半导体科学技术领域内最新的科研成果和技术进展,被EI、CA、SA等收录,在中国科学院、国家科委、中共中央宣传部和国家新闻出版署的期刊评比中多次获奖。主要栏目有:研究快报、研究论文、研究简报、技术进展等。
主办单位:
中国电子学会和中国科学院半导体研究所
期刊荣誉:
中科院优秀期刊二等奖(90)  全国优秀期刊三等奖(92)  全国优秀期刊三等奖(97) 
ISSN:
1674-4926
CN:
11-5781/TN
出版周期:
月刊
邮编:
100083
地址:
北京912信箱
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  • 作者: 张敬明 徐俊英 徐遵图 杨国文 沈光地 陈良惠 马骁宇
    发表期刊: 2000年5期
    页码:  417-420
    摘要:
  • 作者: Lam Yee Loy 孙小卫 施卫 赵卫
    发表期刊: 2000年5期
    页码:  421-425
    摘要: 报道了用ns和fs超快脉冲激光器触发GaAs光电导开关的实验结果.用μJ量级的ns光脉冲触发3mm间隙的GaAs光电导开关,观察到线性和非线性工作模式,峰值电流达560A.当用重复率为76M...
  • 作者: 林兰英 王启元 蔡田海 郁元桓
    发表期刊: 2000年5期
    页码:  426-430
    摘要: 随着大规模和超大规模集成电路特征尺寸向亚微米、深亚微米发展,下一代集成电路对硅片的表面晶体完整性和电学性能提出了更高的要求.与含有高密度晶体原生缺陷的硅抛光片相比,硅外延片一般能满足这些要求...
  • 作者: 李志坚 田立林 陈文松
    发表期刊: 2000年5期
    页码:  431-436
    摘要:
  • 作者: 刘念华 姚冬敏 彭学新 李述体 江风益 熊传兵 王立 辛勇
    发表期刊: 2000年5期
    页码:  437-440
    摘要: 采用卢瑟福背散射及沟道效应、X射线双晶衍射和光致发光谱三种技术对两类未故意掺杂的MOVPE生长的GaN样品进行综合测试.它们在表征GaN单晶膜质量方面结果一致.
  • 作者: C.Jagadish H.H.Tan Lan Fu M.B.Johnston M.Gal 刘兴权 李娜 李宁 沈学础 窦红飞 陆卫 陈张海
    发表期刊: 2000年5期
    页码:  441-444
    摘要: 用金属有机物化学气相沉积法(MOCVD)生长GaAs/AlGaAs量子阱材料,并制成红外探测器.测量了材料的光致发光光谱和探测器的光电流响应光谱及其它光电特性,峰值波长7.9μm,响应率达到...
  • 作者: 张进书 林惠旺 贾宏勇 钱伟 钱佩信
    发表期刊: 2000年5期
    页码:  445-450
    摘要: 利用3μm工艺条件制得SiGe HBT(Heterojunction Bipolar Transistor),器件的特征频率达到8GHz.600MHz工作频率下的最小噪声系数为1.04dB,...
  • 作者: 王阳元 黄如
    发表期刊: 2000年5期
    页码:  451-459
    摘要: 提出了深亚微米SOI GCHT电流模型.不同于普通MOSFET短沟模型的处理,计及受栅电压及基极电压同时控制的可动电荷的影响,采用准二维分析及抛物线近似,求出沟道长度及漏端电压对源端表面势的...
  • 作者: 张兴 王阳元 黄如
    发表期刊: 2000年5期
    页码:  460-464
    摘要: 讨论了CoSi2SALICIDE结构对CMOS/SOI器件和电路抗γ射线总剂量辐照特性的影响.通过与多晶硅栅器件对比进行的大量辐照实验表明,CoSi2SALICIDE结构不仅可以降低CMOS...
  • 作者: 卜惠明 吴军 张荣 施毅 袁晓利 郑有 韩平 顾书林
    发表期刊: 2000年5期
    页码:  465-468
    摘要: 研究了极细沟道NMOSFET器件的随机电报信号噪声(RTS)的特征.首次在室温下观测到了大幅度(大于60%)的RTS,发现当器件工作在弱反型区时,RTS幅度基本与温度和栅压无关.对RTS的动...
  • 作者: 张炯 李瑞伟
    发表期刊: 2000年5期
    页码:  469-472
    摘要: 从模拟和试验二方面对N区的结构参数影响器件可靠性的规律进行了细致的研究.考虑到工艺条件,主要讨论N-区的掺杂浓度(NN-)的变化对器件可靠性的影响.通过模拟和从实际工作中得到的结果,对于0....
  • 作者: 屈新萍 徐蓓蕾 李炳宗 茹国平
    发表期刊: 2000年5期
    页码:  473-479
    摘要: 研究了超薄(~10nm)CoSi2/Si的肖特基势垒接触特性.Co(3-4nm)/Ti(1nm)双层金属通过快速热退火在Si(100)衬底上形成超薄CoSi2薄膜.X射线衍射测试表明该薄膜具...
  • 作者: 主红杰 余金中 成步文 李成 杨沁清 王启明 罗丽萍
    发表期刊: 2000年5期
    页码:  480-482
    摘要: 报道了正入射Si0.7Ge0.3/Si多量子阱结构光电探测器的制作和实验结果.测试了它的光电流谱和量子效率.探测器的响应波长扩展到了1.3μm以上波段.在1.3μm处量子效率为0.1%.量子...
  • 作者: 余金中 彭晔 成步文 朱家廉 李成 杨沁清 王启明 王红杰 王鲁峰
    发表期刊: 2000年5期
    页码:  483-485
    摘要: Si基共振腔型光电探测器的关键工艺是隐埋Bragg反射器镜面的制备.用PECVD方法在Si衬底上制备了SiOxNy/Si Bragg反射器,研究了Bragg反射器的反射谱和退火行为.
  • 作者: 余金中 杨沁清 欧海燕 王启明 胡雄伟 雷红兵
    发表期刊: 2000年5期
    页码:  486-490
    摘要: 分析了平面阵列波导的模式特性.其导波模式为周期性调幅的平面波(Bloch波).阵列波导输入/输出波导结构是影响其传输特性的重要因素.采用扇形过渡波导结构以提高阵列波导输入/输出端口芯区宽度与...
  • 作者: 丁保延 章倩苓
    发表期刊: 2000年5期
    页码:  491-495
    摘要: 针对MPEG音频、AC-3宽带音频数据压缩标准的解码过程中的要求,扩展了已报道的常数除法算法[1],使之适于特定应用场合.设计实现了除数为一组常数的常数除法器.该常数除法器使用规整的单元阵列...
  • 作者: 吴智 唐璞山 黄均鼐
    发表期刊: 2000年5期
    页码:  496-503
    摘要: 把边界元方法运用到数模混合集成电路衬底耦合电阻参数的提取.求出了满足衬底边界条件的格林函数,而不是采用三维自由空间的格林函数,从而使需离散的边界仅仅是衬底表面的端口区.在计算阻抗元素时,利用...
  • 作者: 张大成 李昕欣 杨恒 武国英 沈绍群 鲍敏杭
    发表期刊: 2000年5期
    页码:  504-508
    摘要: 介绍了一种测定硅各向异性腐蚀速率分布的新方法.硅各向异性腐蚀速率三维分布可由一系列晶面上的二维腐蚀速率分布表示.利用深反应离子刻蚀技术(DRIE)在{0mn}硅片上制作出侧壁垂直于硅片表面的...
  • 作者: 林昌健 程璇
    发表期刊: 2000年5期
    页码:  509-516
    摘要: 分别采用电化学直流极化和交流阻抗技术,通过控制光照和溶液化学组分,研究了半导体硅片/氢氟酸体系的电化学特性和半导体性能.对p(100)和n(100)两种硅片的研究结果均表明,有光照条件下硅/...
  • 作者: 刘世祥 刘渝珍 叶甜春 孙宝银 石万全 赵玲莉 陈梦真 韩一琴
    发表期刊: 2000年5期
    页码:  517-520
    摘要: 在4.66eV的激光激发下,在室温下LPCVD氮化硅薄膜可发射高强度可见光,其峰位位置分别为2.97,2.77,2.55,2. 32,2.10和1.90eV的6个PL峰,建立了可见光发射的能...

半导体学报(英文版)基本信息

刊名 半导体学报(英文版) 主编 王守武
曾用名 半导体学报
主办单位 中国电子学会和中国科学院半导体研究所  主管单位 中国科学院
出版周期 月刊 语种
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ISSN 1674-4926 CN 11-5781/TN
邮编 100083 电子邮箱 jos@semi.ac.cn
电话 010-82304277 网址 www.jos.ac.cn
地址 北京912信箱

半导体学报(英文版)评价信息

期刊荣誉
1. 中科院优秀期刊二等奖(90)
2. 全国优秀期刊三等奖(92)
3. 全国优秀期刊三等奖(97)

半导体学报(英文版)统计分析

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