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微细加工技术2000年出版文献
出版文献量（篇）
672
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微细加工技术
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Microfabrication Technology
《微细加工技术》创刊于1983年，是国家科委和国家新闻出版署批准，国内外公开发行的中央级重要科技期刊。是国家一级检索刊物，已连续9年被美国工程信息公司Ei数据库收录，是《中国期刊网》、《中国学术期刊（光盘版）》、《中国学术期刊综合评价数据库》全文收录用刊，是《中国科学引文数据库》来源期刊。
主办单位：
中国电子科技集团公司第48研究所
期刊荣誉：
国家一级检索刊物用刊
美国工程信息公司Ei数据库收录
ISSN：
1003-8213
CN：
43-1140/TN
出版周期：
双月刊
邮编：
地址：
出版文献量（篇）
672
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1. 微光刻技术的发展刊名： 微细加工技术发表期刊： 2000年1期页码:摘要： 阐述了光刻技术的发展及其分辨极限,对准分子激光光刻技术及其发展作了比较详细的论述.
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2. 灰度掩模技术刊名： 微细加工技术发表期刊： 2000年1期页码:摘要： 二元光学被誉为"1990年代的光学技术",在国防、科研、生产等领域都显示出广阔的应用前景.衍射光学元件有很多制作方法,比较成熟的有二元光学元件加工方法和激光或电子束直写技术加工方法.二元光学...
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刊名： 微细加工技术发表期刊： 2000年1期页码:摘要： 邻近效应是指电子在抗蚀剂和基片中的散射引起图形的改变,它严重地影响了图形的分辨率.有多种方法对邻近效应进行修正如剂量调整、图形调整等.我们以JBX-5000LS为手段,用三种方法:1图形尺寸...
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刊名： 微细加工技术发表期刊： 2000年1期页码:摘要： 用大束流密度的钒金属离子注入硅,能够直接合成性能良好的薄层硅化物.随束流密度的增加,硅化钒相生长,薄层硅化物的方块电阻Rs明显下降,当束流密度为25μA/cm2时,Rs达到最小值22Ω/□,...
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刊名： 微细加工技术发表期刊： 2000年1期页码:摘要： 介绍了分步重复投影光刻机亚半微米光刻物镜光学和机械结构研究设计、设计结果,以及公差控制.指出技术指标已达到:数值孔径NA=0.63、工作波长λ=365nm、倍率5x、工作分辨力R≤0.35μ...
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刊名： 微细加工技术发表期刊： 2000年1期页码:摘要： 分析温度气压对物镜光学材料、透镜厚度间隔,以及空气折射率的影响,并用空气折射率对物镜像质影响进行模拟计算.研究表明物镜焦面产生较大漂移,对倍率有一定影响,而对畸变影响较小,指出对物镜进行温度...
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刊名： 微细加工技术发表期刊： 2000年1期页码:摘要： 阐述高分辨力光刻机的图像对准系统的原理及实现过程.着重介绍图像处理技术在高精度对准系统中的应用.并讨论系统应用中的图像处理算法.
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刊名： 微细加工技术发表期刊： 2000年1期页码:摘要： 介绍了0.8～1.0μm分步重复投影光刻机双光路光栅衍射同轴对准系统的构成及原理,详细讨论了对准数据的软件处理和计算方法,并给出实际测试结果.
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刊名： 微细加工技术发表期刊： 2000年1期页码:摘要： 对掩模,硅片同轴对准系统中影响对准精度的诸因素进行了理论分析,阐述了误差形成机理及相应的对策,以理论分析指导精度实验取得了±0.06μm(3σ)对准精度.
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10. 通过控制原子实现纳米图形制作研究刊名： 微细加工技术发表期刊： 2000年1期页码:摘要： 基于激光冷却和捕获原子的原理,初步探讨了利用原子进行纳米量级图形制作的基本原理和实验研究.研究结果表明,此技术可实现分辨率高达几个纳米大小的超微细图形制作,制作效率极高.
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11. φ2mm微马达驱动旋转式微泵刊名： 微细加工技术发表期刊： 2000年1期页码:摘要： 在生物医学、化学液体的流量检测与分析及固态元器件冷却等领域中,均需要流量的精细控制和检测系统.在这类流量精细控制和检测系统中,微小型泵是一个基本元件.作者利用上海交通大学研制成功的、由微细加...
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12. DEM技术中微复制工艺研究刊名： 微细加工技术发表期刊： 2000年1期页码:摘要： 利用DEM(Deeptching,Electroforming,Microreplication)技术获得的微复制金属模具进行了微复制工艺研究.对微复制工艺参数进行了优化,在PC、PMMA和...
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刊名： 微细加工技术发表期刊： 2000年1期页码:摘要： 介绍了用LIGA技术研制用于微行星齿轮减速器的微齿轮过程中,X光掩模板图形的CAD设计.它包括微齿轮的建模和图形的生成,微齿轮图形的分割及图形的拟合.
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14. 微三维结构型腔的微细电火花加工刊名： 微细加工技术发表期刊： 2000年1期页码:摘要： 利用简单截面形状电极,建立在分层制造思想上的电极等损耗微细电火花加工技术是实现微三维结构微细加工的有效手段.分析了该方法的工艺特点;研究了实现该技术的条件及电极损耗补偿策略.
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15. 半导体金刚石膜的磁阻效应刊名： 微细加工技术发表期刊： 2000年1期页码:摘要： 研究了在硅上P型异质外延金刚石膜的磁阻效应.实验结果表明金刚石膜有显著的磁阻反应,并与磁阻器件的结构有关.在室温下圆盘形结构的磁阻相对变化在5T磁场下约为0.85,而长条形结构只有0.40.
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16. 软刻蚀--图形转移和微制造新工艺刊名： 微细加工技术发表期刊： 2000年2期页码:摘要： 软刻蚀"是相对于微制造领域中占据主导地位的刻蚀而言的微图形转移和微制造的新方法,总的思路就是把用昂贵设备生成的微图形通过中间介质进行简便而又精确的复制,提高微制作的效率,包括微接触印刷,毛细...
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刊名： 微细加工技术发表期刊： 2000年2期页码:摘要： 简要介绍了电子注分析仪数据采集及控制系统的重要性和基本结构,然后着重介绍了该系统的软、硬件设置及其工作原理.
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刊名： 微细加工技术发表期刊： 2000年2期页码:摘要： 提出了一种新型的分布串联横向电阻Spindt型FEA的制作工艺.通过溅射的办法制备了各层电极、绝缘层以及FEA电阻层.利用磁增强反应离子刻蚀设备,刻蚀出Mo薄膜电极图案和直径1μm,深度1μ...
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刊名： 微细加工技术发表期刊： 2000年2期页码:摘要： FED内部真空中的电场和电子运动受到支撑结构的影响,为此采用了有限元法计算带有介质支撑墙的FED电场分布;采用龙格-库塔法计算该空间电子轨迹.并且在考虑了介质支撑墙上的二次电子发射之后,定性...
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20. 一种复杂图形的处理和扫描技术刊名： 微细加工技术发表期刊： 2000年2期页码:摘要： 介绍一种集成电路版图复杂图案的处理和扫描技术,提出在一个大场中,分割成若干小场的扫描实用算法,完成各小场的定位及高速扫描硬件及软件结构.
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刊名： 微细加工技术发表期刊： 2000年2期页码:摘要： 从标量衍射理论出发,在傅立叶光学的基础上,建立一个数学模型,分析台阶侧壁倾斜对多阶菲涅耳透镜衍射效率的影响.并通过实验,分析影响台阶侧壁倾斜、表面粗糙度和刻蚀速率的因素,确定离子束刻蚀菲涅耳...
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刊名： 微细加工技术发表期刊： 2000年2期页码:摘要： 建立氩离子束对光刻胶微透镜的刻蚀模型,模拟折射微透镜制备中的离子束刻蚀工艺过程.通过模拟可以预先获得离子束在不同倾斜入射状态下所得到的折射微透镜的截面轮廓,为优化离子束的刻蚀工艺奠定基础,同...
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刊名： 微细加工技术发表期刊： 2000年2期页码:摘要： 利用灰阶编码掩模实现光学邻近效应精细校正是改善光刻图形质量的有效方法,设计并利用电子束直写系统加工了用于实现邻近效应校正的灰阶编码掩模,首次在投影光刻系统上用这一方法实现了光学邻近效应校正,...
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24. 微机电光调制器技术研究刊名： 微细加工技术发表期刊： 2000年2期页码:摘要： 调制器是光纤系统的重要器件.硅基微机械光调制技术使用常规硅平面工艺方法,制作较为简单,成本较低.同时,又具有高数据速率(几Mb/s)和宽频带(1.3μm～1.5μm)性能,满足日益增长的波分...
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25. 制备有机聚合物脊型光波导的新方法刊名： 微细加工技术发表期刊： 2000年2期页码:摘要： 详细讨论了DR1/PMMA聚合物波导在紫外光照射下,各个模式的有效折射率,薄膜厚度,以及紫外可见吸收谱的变化情况.并在此基础上,提出了以金属掩模,利用光漂白技术制备聚酰亚胺脊型光波导的新方法...
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刊名： 微细加工技术发表期刊： 2000年2期页码:摘要： 原子力显微镜(AFM)以其优异的特性不仅在微米、纳米的范围内获取图象,同时可以获取针尖与样品之间的作用力,为研究样品的力学性能提供了新思路.对AFM在力学测量上的原理和应用进行了综述,并提出...
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27. 电镀法制作活动微结构的牺牲层工艺刊名： 微细加工技术发表期刊： 2000年2期页码:摘要： 报道了一种采用电镀方法制作活动微结构的牺牲层工艺,该牺牲层技术可用于微电子机械装置中活动部件的制作.利用电镀形成Zn牺牲层,结合微细加工技术中的LIGA工艺对该工艺进行了验证,制作出可活动的...
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28. LIGA技术X光深层光刻工艺研究刊名： 微细加工技术发表期刊： 2000年2期页码:摘要： 通过在北京高能所3W1束线上进行的X光深层光刻工艺研究,获得了侧壁光滑、陡直,厚度达100μm,深宽比达20的光刻胶和金属微结构,表明该光束线适用于LIGA技术的研究.
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29. 超磁致伸缩微位移驱动器的研究刊名： 微细加工技术发表期刊： 2000年2期页码:摘要： 新型超磁致伸缩材料TbDyFe具有输出力大、位移分辨力高及位移范围大等特点,将其应用于微位移驱动器中,将极大提高驱动器的性能指标,从而推动超精加工技术的发展.文中介绍了应用超磁致伸缩材料研制...
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刊名： 微细加工技术发表期刊： 2000年2期页码:摘要： 利用溶胶-凝胶法合成出纳米晶SnO2薄膜,该薄膜可以利用化学腐蚀方法光刻腐蚀,因此采用传统硅平面工艺可以制作出纳米晶SnO2薄膜栅FET式气敏元件,实现了制备纳米晶材料的溶胶-凝胶工艺与硅平...
微细加工技术基本信息
| 刊名 | 微细加工技术 | 主编 | |
| 曾用名 | |||
| 主办单位 | 中国电子科技集团公司第48研究所 | 主管单位 | |
| 出版周期 | 双月刊 | 语种 |
chi
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| ISSN | 1003-8213 | CN | 43-1140/TN |
| 邮编 | 电子邮箱 | ||
| 电话 | 网址 | ||
| 地址 | 湖南省长沙市 |
微细加工技术统计分析
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