用于光刻的EUV光源

• 作者: 赵环昱 赵红卫
• 来源期刊: 半导体技术
• 学科: 工学
• 关键词: 光刻 极紫外光源 放电等离子 激光等离子体 ECR等离子体
• 年，卷（期）: 2007,（1）
• 所属期刊栏目: 趋势与展望
• 页码范围: 12-16
• 页数: 5页
• 分类号: TN3
• 字数: 4922字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1003-353X.2007.01.003

摘要

对国际上普遍采用的两种EUV光源:放电等离子体源(DPP)和激光等离子体源(LPP)进行了多方面比较.给出了两种等离子体源各自优点及难以克服的困难.基于目前的测量结果,指出了ECR等离子体有潜力成为一种新型的极紫外辐射源.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	赵红卫	中国科学院近代物理研究所	77	580	14.0	20.0