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电解质类污染物对Au-Al键合界面的可靠性影响
电解质类污染物对Au-Al键合界面的可靠性影响
作者:
解启林
霍绍新
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
Au-Al键合界面
电解质类污染物
电化学腐蚀
摘要:
初步探讨了Au-Al键合界面处于电解质类污染物中发生的失效行为及其机理。分析认为电解质类污染物作用于Au-Al键合界面后,发生了电化学腐蚀反应而加速Au-Al键合提前失效。在实际生产中,实施多芯片组件组装、调试与检验全过程的质量过程控制以及确定多芯片组件合适的气密封指标可以有效排除外来污染物对Au-Al键合界面可靠性的不利影响。
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文献信息
篇名
电解质类污染物对Au-Al键合界面的可靠性影响
来源期刊
电子工艺技术
学科
工学
关键词
Au-Al键合界面
电解质类污染物
电化学腐蚀
年,卷(期)
2013,(6)
所属期刊栏目
微组装 SMT PCB
研究方向
页码范围
342-344,355
页数
4页
分类号
TN60
字数
3252字
语种
中文
DOI
五维指标
作者信息
序号
姓名
单位
发文数
被引次数
H指数
G指数
1
解启林
中国电子科技集团公司第三十八研究所
14
52
5.0
6.0
2
霍绍新
中国电子科技集团公司第三十八研究所
9
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研究主题发展历程
节点文献
Au-Al键合界面
电解质类污染物
电化学腐蚀
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
电子工艺技术
主办单位:
中国电子科技集团公司第二研究所
出版周期:
双月刊
ISSN:
1001-3474
CN:
14-1136/TN
开本:
大16开
出版地:
太原市115信箱
邮发代号:
22-52
创刊时间:
1980
语种:
chi
出版文献量(篇)
2306
总下载数(次)
10
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