半导体学报(英文版)期刊
出版文献量(篇)
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半导体学报(英文版)

Journal of Semiconductors
曾用名: 半导体学报

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影响因子 0.2430
本学报是由中国电子学会主办,中国科学院半导体研究所承办的学术刊物,报道半导体物理学和半导体科学技术领域内最新的科研成果和技术进展,被EI、CA、SA等收录,在中国科学院、国家科委、中共中央宣传部和国家新闻出版署的期刊评比中多次获奖。主要栏目有:研究快报、研究论文、研究简报、技术进展等。
主办单位:
中国电子学会和中国科学院半导体研究所
期刊荣誉:
中科院优秀期刊二等奖(90)  全国优秀期刊三等奖(92)  全国优秀期刊三等奖(97) 
ISSN:
1674-4926
CN:
11-5781/TN
出版周期:
月刊
邮编:
100083
地址:
北京912信箱
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6983
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  • 作者: 关荣华 刘建军 杨国琛 苏会
    发表期刊: 2003年6期
    页码:  561-566
    摘要: 通过在波函数中考虑量子线的限制方向和非限制方向的相关性,计算了GaAs/Ga1-xAlxAs量子阱线中类氢杂质的束缚能和光致电离截面.结果表明光致电离截面的大小受量子线尺寸的影响,并且对于相...
  • 作者: 孙国胜 孙艳玲 张永兴 曾一平 李晋闽 林兰英 王雷 罗木昌 赵万顺
    发表期刊: 2003年6期
    页码:  567-573
    摘要: 在MBE/CVD高真空系统上,利用低压化学气相淀积(LPCVD)方法在直径为50mm的单晶Si(100)衬底上生长出了高取向无坑洞的晶态立方相碳化硅(3C-SiC)外延材料,利用反射高能电子...
  • 作者: 朱自强 赖宗声 龙永福
    发表期刊: 2003年6期
    页码:  574-578
    摘要: 提出使用过氧化氢后处理多孔硅厚膜.在乙醇、氢氟酸、过氧化氢溶液中,多孔硅样片做阴极施加电流密度为10mA/cm2,希望通过后处理增强多孔硅表面的稳定性、光滑度和机械强度.研究了厚度为20μm...
  • 作者: 杨国勇 毛凌锋 王子欧 王金延 许铭真 谭长华 霍宗亮
    发表期刊: 2003年6期
    页码:  579-585
    摘要: 通过测量界面陷阱的产生,研究了超薄栅nMOS和pMOS器件在热载流子应力下的应力感应漏电流(SILC).在实验结果的基础上,发现对于不同器件类型(n沟和p沟)、不同沟道长度(1、0.5、0....
  • 作者: 亢宝位 刘兴明 吴郁 李俊峰 王哲 程序 韩郑生
    发表期刊: 2003年6期
    页码:  586-591
    摘要: 提出了一种低功率损耗的新结构IGBT.该新结构的创新点在于其复合耐压层结构,该耐压层包括深扩散形成的n型缓冲层和硼注入形成的透明背发射区两部分.虽然在正常工作条件下,该新结构IGBT工作于穿...
  • 作者: 何平 刘理天 李志坚 林曦 江波 王曦 田立林 董业明 陈猛
    发表期刊: 2003年6期
    页码:  592-597
    摘要: 为了克服传统SOI器件的浮体效应和自热效应,采用创新的工艺方法将低剂量局域SIMOX工艺及传统的CMOS工艺结合,实现了DSOI结构的器件.测试结果表明,该器件消除了传统SOI器件的浮体效应...
  • 作者: 余学功 杨建松 杨德仁 阙端麟 马向阳
    发表期刊: 2003年6期
    页码:  598-601
    摘要: 研究了重掺硼(HB)、重掺砷(HAs)以及重掺锑(HSb)直拉(CZ)硅片对重金属Cr的内吸杂能力.将不同程度(~1012cm-2,~1014cm-2)沾污Cr的硅片在N2下进行常规的高-低...
  • 作者: 刘宏新 刘成海 孙殿照 曾一平 李晋闽 林兰英 王军喜 王晓亮 胡国新
    发表期刊: 2003年6期
    页码:  602-605
    摘要: 用射频等离子体辅助分子束外延技术(RF-MBE)在c面蓝宝石衬底上外延了高质量的GaN膜以及AlN/GaN超晶格结构极化感应二维电子气材料.所获得的掺Si的GaN膜室温电子浓度为2.2×10...
  • 作者: 张昆辉 邵乐喜 黄惠良
    发表期刊: 2003年6期
    页码:  606-611
    摘要: 以金属锌(Zn)和铝(Al)为靶材采用射频(RF)反应共溅射技术在低温(200℃)玻璃衬底上沉积了铝掺杂氧化锌(ZnO∶Al)薄膜.运用扫描电子显微镜(SEM)、能量色散X射线谱(EDX)、...
  • 作者: 屈新萍 李炳宗 王光伟 茹国平 陆华
    发表期刊: 2003年6期
    页码:  612-616
    摘要: 研究了W-Si-N三元化合物对铜的扩散阻挡特性.在Si(100)衬底上用离子束溅射方法淀积W-Si-N,Cu/W-Si-N薄膜,样品经过高纯氮气保护下的快速热退火,用俄歇电子能谱原子深度分布...
  • 作者: 姜国宝 康晓旭 林殷茵 汤庭鳌 王晓光 钟宇 黄维宁
    发表期刊: 2003年6期
    页码:  617-621
    摘要: 以LaNiO3(LNO)为独立下电极,制备出Au(Cr)/PZT/LNO/SiO2结构的铁电电容,与使用Pt下电极对比,其抗疲劳特性得到了极大的改善.在1MHz频率10V电压下,经过1011...
  • 作者: 叶志镇 张海燕 李蓓 谢靓红 赵炳辉 黄靖云
    发表期刊: 2003年6期
    页码:  622-625
    摘要: 采用超高真空化学气相沉积技术,在n型重掺Si衬底上生长了轻掺的薄硅外延层,利用扩展电阻和原子力显微分析对外延层进行了检验.结果表明,重掺Si衬底与薄硅外延层之间的界面过渡区陡峭,外延层厚度在...
  • 作者: 郝跃 韩晓亮
    发表期刊: 2003年6期
    页码:  626-630
    摘要: 研究了超深亚微米PMOS器件中的NBTI(负偏置温度不稳定性)效应,通过实验得到了NBTI效应对PMOSFET器件阈值电压漂移的影响,并得到了在NBTI效应下求解器件阈值电压漂移的经验公式....
  • 作者: 忻佩胜 朱守正 朱自强 朱荣锦 杨根庆 程知群 范忠 贾铭 赖宗声 郭方敏
    发表期刊: 2003年6期
    页码:  631-636
    摘要: 介绍了采用金、铝硅合金等金属分别用作压控式RF MEMS开关阵列--移相器的可动薄膜,实验表明金的延展性比较好,弹性比铝硅合金稍差,启动电压较高.相比较含硅4%的轻质量铝硅合金具有较低的启动...
  • 作者: 吴瑞 郑国祥 黄飞鸿
    发表期刊: 2003年6期
    页码:  637-642
    摘要: 介绍了EEPROM的电学模型,模拟分析了阈值电压变化与写入时间、写入电压、隧道孔面积、浮栅面积的关系.根据模拟结果,采用0.6μm CMOS工艺,对双层多晶硅FLOTOX EEPROM进行了...
  • 作者: 叶凡 李联 王彦 郑增钰
    发表期刊: 2003年6期
    页码:  643-648
    摘要: 提出了一个新的用于10/100 Base-T以太网中面积和功耗优化的时钟恢复电路.它采用双环路的结构,加快了锁相环路的捕获和跟踪速度;采用复用的方式,通过选择信号控制电路可分别在10Mbps...
  • 作者: 孙志国 彩霞 程兆年 罗乐 黄卫东
    发表期刊: 2003年6期
    页码:  649-655
    摘要: 用有限元模拟研究了板上芯片固化后残余应力的分布.在FR4及陶瓷分别作基板的两种情况下,残余应力分布最显著的差异是等效应力分布不同.讨论了基板厚度及粘合胶厚度对残余应力的影响,表明采用陶瓷基板...
  • 作者: 何国伟 孟宣华 殷光迁 顾靖
    发表期刊: 2003年6期
    页码:  656-662
    摘要: 介绍了一种新型的存储技术--多能级存储,并对应用此技术的多能级闪存进行γ射线辐射,研究了多能级闪存的阈值电压及存储单元的电性能曲线等随辐射剂量、辐射剂量率以及时间的关系规律.对实验结果进行了...
  • 作者: 应桃开 朱自强 朱荣锦 李爱珍 虞献文
    发表期刊: 2003年6期
    页码:  663-667
    摘要: 研究了多孔硅的阴极还原表面处理技术,通过该技术获得了表面平滑度良好、稳定度高、抗压强度高和耐高温性能好且在空气中可以长期干燥保存的多孔硅样品.在其表面上可以进行光刻、镀金等工艺,因此,可应用...
  • 作者: 徐茵 杨大智 秦福文 顾彪
    发表期刊: 2003年6期
    页码:  668-672
    摘要: 通过分析RHEED(反射高能电子衍射)图像研究了ECR(电子回旋共振)等离子体所产生的活性氢源和氮源对蓝宝石衬底的清洗与氮化作用,结果表明:在ECR氢等离子体中掺入少量的氮气可以明显提高蓝宝...

半导体学报(英文版)基本信息

刊名 半导体学报(英文版) 主编 王守武
曾用名 半导体学报
主办单位 中国电子学会和中国科学院半导体研究所  主管单位 中国科学院
出版周期 月刊 语种
eng
ISSN 1674-4926 CN 11-5781/TN
邮编 100083 电子邮箱 jos@semi.ac.cn
电话 010-82304277 网址 www.jos.ac.cn
地址 北京912信箱

半导体学报(英文版)评价信息

期刊荣誉
1. 中科院优秀期刊二等奖(90)
2. 全国优秀期刊三等奖(92)
3. 全国优秀期刊三等奖(97)

半导体学报(英文版)统计分析

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