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微细加工技术

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Microfabrication Technology

CSTPCD

《微细加工技术》创刊于1983年，是国家科委和国家新闻出版署批准，国内外公开发行的中央级重要科技期刊。是国家一级检索刊物，已连续9年被美国工程信息公司Ei数据库收录，是《中国期刊网》、《中国学术期刊（光盘版）》、《中国学术期刊综合评价数据库》全文收录用刊，是《中国科学引文数据库》来源期刊。

主办单位：

中国电子科技集团公司第48研究所

期刊荣誉：

国家一级检索刊物用刊 美国工程信息公司Ei数据库收录

ISSN：

1003-8213

CN：

43-1140/TN

出版周期：

双月刊

邮编：

地址：

湖南省长沙市

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热门刊内文献

年度刊次

1. SU-8胶模去除技术

作者：丁桂甫崔峰张卫平赵小林陈文元靖向萌

刊名：微细加工技术

发表期刊： 2007年1期

页码: 1-6

摘要：对各种去胶技术的原理、优缺点及其适用场合进行了综述,并结合本实验室的电铸Ni结构去胶试验,对强碱熔盐浴氧化、强酸氧化等经济有效的去胶方法进行了有益发展.最后介绍了SU-8辅助去胶技术,如辅助...
2. 液态金属镓离子源的制备

作者：刘同娟顾文琪马向国

刊名：微细加工技术

发表期刊： 2007年1期

页码: 7-10,59

摘要：叙述了为纳米聚焦离子束装置研制的镓液态金属离子源的制备,并对该离子源的I-V特性、角电流密度、稳定性以及寿命等性能进行了测试,结果表明,该源的各项指标均达到了聚焦离子束系统对液态金属离子源的...
3. 基于光刻胶热熔法的全息光栅表面粗糙度平滑处理

作者：巴音贺希格李文昊齐向东

刊名：微细加工技术

发表期刊： 2007年1期

页码: 11-14

摘要：根据表面热动力学原理提出了一种成本低廉、制作周期短、易于实现的光刻胶热熔法,阐述了光刻胶热熔法的基本原理,探讨了光刻胶热熔对光刻胶光栅表面刻槽形状的影响.实验中,分别对经过和未经过热熔处理的...
4. 高精度长线列密排光纤阵列的制作研究

作者：侯凤杰孔庆峰李佳梁静秋郭鹏

刊名：微细加工技术

发表期刊： 2007年1期

页码: 15-18

摘要：本文讨论了利用硅V型槽法制作高精度线性光纤阵列的可行性,介绍了硅V型槽制作机理,对影响器件精度的主要因素进行了分析,并在器件设计、制作中给予充分考虑.根据器件的可靠性要求,分析了用于光纤粘接...
5. 衍射光学元件制作中的基片涂胶方法

作者：付绍军刘颖徐向东洪义麟邱克强

刊名：微细加工技术

发表期刊： 2007年1期

页码: 19-23

摘要：在基片上涂布一层厚度均匀的光刻胶层,是衍射光学元件制作中的一个重要步骤.介绍了目前用于衍射光学元件制作的两种主要涂胶方法--提拉法和旋转法,分析了这两种方法的特点和影响胶层厚度的主要因素,尤...
6. 金纳米粒子作掩模的硅纳米柱阵列的加工

作者：张亚非王英赵保军

刊名：微细加工技术

发表期刊： 2007年1期

页码: 24-27,31

摘要：利用自组装的方法在硅基片表面形成一层均匀的金纳米粒子掩模,分析了偶联剂对自组装的影响,以金纳米粒子作掩模进行反应离子刻蚀,研究了刻蚀时间对硅纳米柱阵列的影响,提供了一种简单、便宜并且有效的在...
7. 等离子体刻蚀处理大面积金刚石薄膜

作者：冉均国苟立郑元元

刊名：微细加工技术

发表期刊： 2007年1期

页码: 28-31

摘要：平整均匀的大面积金刚石膜是其在电子领域工业化应用的前提.采用微波等离子体化学气相沉积装置,分别用氢气、氮气加空气、氧气对大面积金刚石膜进行了等离子体处理,通过表面形貌和电阻率的均匀性表征金刚...
8. 两种离子束方法制备Cr膜的分析研究

作者：代海洋王治安黄宁康

刊名：微细加工技术

发表期刊： 2007年1期

页码: 32-35,50

摘要：在室温下,采用离子束溅射同时经100 keV Ar+离子轰击的动态离子束混合技术和采用离子束溅射技术这两种方法制备Cr膜,并用XPS,SEM及AES对薄膜的结构、表面形貌、薄膜与基体附着力的...
9. SF6/O2等离子体刻蚀a-C:F薄膜的研究

作者：吴振宇杨银堂柴常春汪家友

刊名：微细加工技术

发表期刊： 2007年1期

页码: 36-40

摘要：以SF6/O2为刻蚀气体, 采用电子回旋共振等离子体反应离子刻蚀(ECR-RIE)方法进行了氟化非晶碳(a-C:F)低介电常数薄膜的等离子体刻蚀技术研究,结果表明,a-C:F薄膜的刻蚀速率取...
10. 一种微电解池式微流量传感器的研制

作者：吴一辉宣明张小娟张平王淑荣贾宏光

刊名：微细加工技术

发表期刊： 2007年1期

页码: 41-45,55

摘要：基于电解质溶液导电的特性,研制了可测量微升级流量的高灵敏度微电解池式微流量传感器.由电解反应产生的电流大小确定流体流过的时间t,再根据流体流量Q、管道截面积S及液体通过的时间t,即可以得出流...
11. 基于PDMS模具热模压制备微流控通道结构的方法

作者：庄贵生潘欣欣陈翔陈迪

刊名：微细加工技术

发表期刊： 2007年1期

页码: 46-50

摘要：介绍了一种利用聚二甲基硅氧烷(PDMS)的快速成型来制备模具,再进行热模压制造微流控通道结构的方法.通过在硅片上旋涂SU-8胶进行光刻显影,得到结构模版,在此模版上浇注PDMS,脱模即得到P...
12. Pyrex7740玻璃深刻蚀研究

作者：刘文平明安杰李铁王跃林

刊名：微细加工技术

发表期刊： 2007年1期

页码: 51-55

摘要：研究了以TiW/Au为掩膜,在氢氟酸以及氢氟酸加硝酸溶液中Pyrex7740玻璃的湿法深刻蚀现象.实验发现,在氢氟酸中玻璃的刻蚀速率随溶液温度及浓度的升高而升高,室温下纵/横向侧蚀比最小.在...
13. SF6/O2气氛下Al对反应离子刻蚀Si的增强作用机理研究

作者：周嘉程正喜郭育林

刊名：微细加工技术

发表期刊： 2007年1期

页码: 56-59

摘要：通过实验和统计分析方法研究了Al在SF6/O2气体干法刻蚀Si中的增强作用机理.研究表明,Al在SF6/O2刻蚀Si中具有增强作用,而且Al的增强作用基本独立,受其它刻蚀条件的影响较小.Al...
14. 基于UV-LIGA技术的新型RF MEMS开关

作者：丁桂甫张永华蔡炳初赖宗声

刊名：微细加工技术

发表期刊： 2007年1期

页码: 60-64

摘要：介绍了一种基于UV-LIGA加工技术的双稳态电磁型RF MEMS开关,该结构由于使用了永磁体单元而使得开关在维持"开"或"关"态时不需要功耗,利用牺牲层UV-LIGA技术实现了开关的微制作....
15. 短讯

作者：

刊名：微细加工技术

发表期刊： 2007年1期

页码: 64

摘要：
16. 基于SEM的图形检测系统设计

作者：任胜先方光荣

刊名：微细加工技术

发表期刊： 2007年2期

页码: 1-4,33

摘要：为满足快速扫描大面积图形的需要,设计了基于扫描电镜的高速图形检测系统.该系统采用快速硬件扫描方式来提高图形检测的速度,可应用于对芯片质量、内部线路状况的检测.介绍了以现场可编程逻辑门阵列(F...
17. 紫外压印模版的制备

作者：司卫华董晓文顾文琪

刊名：微细加工技术

发表期刊： 2007年2期

页码: 5-8

摘要：概述了紫外压印的原理及其优点,并通过对紫外压印模版特殊性的分析,提出了两种紫外压印模版的制作.用反应离子刻蚀法制作了玻璃模版,用浇灌法制作了聚二甲基硅氧烷(PDMS)模版,最后给出了实验过程...
18. 一种微摩擦力光学测试方法

作者：刘治华孟令启杨杰伟王春丽

刊名：微细加工技术

发表期刊： 2007年2期

页码: 9-12

摘要：为了测试微观条件下材料表面的摩擦学性能,给出了一种微摩擦力的光学测试方法.基于MEMS工艺制作了硅微力传感器,通过标定的方法得到了微力与传感器的变形量之间的关系,采用光反射的方法测量了试验过...
19. SU-8环氧树脂的分离实验研究

作者：周崇喜姚汉民张晓玉邢廷文

刊名：微细加工技术

发表期刊： 2007年2期

页码: 13-15,33

摘要：为分析和解决商业用SU-8胶在355 nm波长的吸收性和后烘缩胶等问题,先采用柱层析对SU-8环氧树脂进行分离,然后进一步用高压液相色谱-尺寸排阻色谱法对SU-8环氧树脂进行分离和分析.结果...
20. 利用等离子体表面预处理改善光掩模IP胶显影工艺特性

作者：李勇程秀兰

刊名：微细加工技术

发表期刊： 2007年2期

页码: 16-19

摘要： IP胶亲水性较差,在显影时易造成显影不完全.介绍了一种在显影前适当增加等离子体表面预处理,以提高IP胶表面微粗糙度,进而改善IP胶显影特性的方法.研究表明,这种方法可有效地提高IP胶的亲水性...
21. 多层薄膜微结构热应力计算

作者：周嘉王军军王锡明

刊名：微细加工技术

发表期刊： 2007年2期

页码: 20-23

摘要：建立了以制作工艺为基础、适合多层薄膜微结构的热应力的计算公式.在Stoney方程相同的条件下,验证了所建模型的准确性.所建模型应用于多层微悬臂梁结构在残余应力作用下的形变计算,与实验测量结果...
22. 脉冲电镀制备硅基细晶镍铁合金薄膜

作者：刘波吴一辉张平贾宏光马波

刊名：微细加工技术

发表期刊： 2007年2期

页码: 24-27

摘要：应用脉冲电镀法在硅片上制备细晶粒镍铁合金薄膜,对电镀工艺参数与形成的沉积层的微观组织关系进行了探讨.通过改变脉冲电源的电参数来研究其对镀层结构和微观形貌的影响.运用扫描电子显微镜(SEM)和...
23. PECVD法制备的ZnO薄膜结晶性能的影响

作者：孙云李禾杜楠王应民程国安蔡莉

刊名：微细加工技术

发表期刊： 2007年2期

页码: 28-33

摘要：报道了在等离子体作用下,以CO2/H2为氧源,Zn(C2H5)2为锌源,N2为载气,在Si(111)衬底上采用自行设计等离子体化学气相沉积(PECVD)装置来生长的ZnO薄膜.采用X射线衍射...
24. 采用氨化技术制备成簇生长的光滑线状氮化镓

作者：孙传伟孙莉莉庄惠照王福学艾玉杰薛成山

刊名：微细加工技术

发表期刊： 2007年2期

页码: 34-35,40

摘要：通过在1 000℃时氨化Ga2O3/MgO/Si(111)薄膜15 min,制备出成簇生长的光滑的长直线状GaN.用X射线衍射(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)和高分辨率电子显微镜(HRT...
25. 痕量爆炸物爆燃探测敏感元件的结构设计

作者：孔德义汪小华诸建彬齐永光

刊名：微细加工技术

发表期刊： 2007年2期

页码: 36-40

摘要：通过实验观察了痕量梯恩梯的爆燃现象及其规律,并在此基础上设计了一种集成有加热元件和检测元件的高灵敏度硅梁结构.有限元仿真结果表明,该硅梁升温迅速且温度分布均匀,能实现对纳克量级梯恩梯的检测....
26. 新型压电微喷的研制

作者：崔大付许立宁

刊名：微细加工技术

发表期刊： 2007年2期

页码: 41-44,48

摘要：介绍了一种能够实现微量样品精确供给的压电微喷.该微喷利用压电陶瓷围成液体腔,通过厚度切变振动产生压力波,使液滴喷射.从理论推导、有限元模拟、实际测量三个方面研究了微喷的性能,三者得出的谐振基...
27. 硅栅干法刻蚀工艺中腔室表面附着物研究

作者：刘明张庆钊朱效立李兵谢常青

刊名：微细加工技术

发表期刊： 2007年2期

页码: 45-48

摘要：用Cl2,HBr,O2和CF4为反应气体,对多晶硅栅进行了刻蚀试验,并借助X射线能谱仪器Energy Dispersive X-ray Spectrometry(EDS)进行试验样品的化学成...
28. MEMS微电磁驱动器磨损对光开关性能的影响分析

作者：丁桂甫朱军杨春生蔡炳初贾书海赵小林

刊名：微细加工技术

发表期刊： 2007年2期

页码: 49-51

摘要：光开关中运动元件的磨损对光学元件的位置精度有重要影响.介绍了MEMS微电磁驱动器磨损对光开关光学性能影响的理论分析,采用光纤光学理论计算了磨损所引起的光开关的附加插入损耗,结果表明,所采用的...
29. 微细群孔电解加工试验研究

作者：曲宁松朱荻王明环王磊

刊名：微细加工技术

发表期刊： 2007年2期

页码: 52-56,64

摘要：基于微细电解加工理论,采用微细圆柱群电极进行了微细群孔电解加工工艺试验,研究了加工电压、脉冲宽度、电解液浓度、成分等因素对群孔加工精度的影响.结果表明,减小加工电压和脉冲宽度,采用低浓度钝化...
30. 电火花腐蚀制备Ni粉

作者：文玉华李宁李忠丽李翔龙

刊名：微细加工技术

发表期刊： 2007年2期

页码: 57-59,64

摘要：采用电火花腐蚀的方法制备了Ni粉.通过X射线衍射、扫描电子显微镜和激光粒度分析仪对不同电流制备的Ni粉的组成、形貌、粒度及其分布进行了分析,结果表明,颗粒的相组成绝大部分是金属Ni,颗粒呈球...

微细加工技术基本信息

刊名	微细加工技术	主编
曾用名
主办单位	中国电子科技集团公司第48研究所	主管单位
出版周期	双月刊	语种	chi
ISSN	1003-8213	CN	43-1140/TN
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