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真空
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本杂志是中国真空界主要杂志之一。自1994年真空杂志转换经营机制以来，由我国真空企业界实力雄厚的厂家与杂志社联办成立董事会，并由真空学术界著名学者组成编委会。社会效益与经济效益与日俱增，在国内真空界享有盛誉。自1989年公开发行以来，被美国、英国、德国、日本、意大利、韩国以及港澳地区越来越多的海外学者所关注。
主办单位：
中国机械工业集团公司沈阳真空技术研究所
期刊荣誉：
中国期刊网、光盘国家工程中心用刊
工程技术类核心期刊
ISSN：
1002-0322
CN：
21-1174/TB
出版周期：
双月刊
邮编：
110042
地址：
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1. 磁控溅射镀膜技术的发展摘要： 磁控溅射由于其显著的优点应用日趋广泛,成为工业镀膜生产中最主要的技术之一,相应的溅射技术与也取得了进一步的发展.非平衡磁控溅射改善了沉积室内等离子体的分布,提高了膜层质量;中频和脉冲磁控溅射...
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2. 磁控溅射原理的深入探讨摘要： 从更深层次--电子在非均匀电磁场中的运动规律,探讨了磁控溅射的更一般原理以及磁场的横向不均匀性及对称性是磁约束的本质原因.对工件温升、临界磁场、脱缚电子的能量及原因、刻蚀跑道断面形状的成因等...
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摘要：
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4. 反应磁控溅射的进展摘要： 反应磁控溅射被广泛应用于制备化合物薄膜.本文分析了反应磁控溅射中迟滞效应、靶中毒与打火现象,讨论了提高反应磁控溅射沉积速率、抑制靶面打火与保持溅射过程稳定性的途径.在阐述了近年来反应磁控溅射...
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摘要：
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6. 类金刚石膜的应用及制备摘要： 类金刚石膜(DLC)是由无定形碳和金刚石相混合组成的碳材料,由于具有与金刚石膜(DF)相类似的性能--优异的机械特性、电学特性、光学特性、热学和化学特性以及生物相溶性,同时制备方法相对容易实...
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摘要： 综述了硬质薄膜材料的最新研究状况.硬质薄膜的设计向着多元化、多层膜的方向发展.本征超硬薄膜材料,如:金刚石、C-BN、B4C、TiB2、BC4N等的硬度可以达到50～80 GPa.纳米超晶格...
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摘要： 通过对半导体器件电极制备的两种方法即电子束蒸发与磁控溅射镀铝的比较,详细分析了两种方法的膜厚控制、附着力、致密性、电导率和折射率等重要性能指标,测试结果分析表明磁控溅射铝膜的综合性能优于电子...
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摘要：
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10. 二氧化钒相变分析及应用摘要： 二氧化钒是一种热致变色材料,块体VO2在68℃时会从高温的四方晶系相变到低温的单斜晶系,而且相变可逆.由于其相变的特殊性,使VO2有广泛的应用.本文分析了二氧化钒相变晶体学、热力学和动力学特...
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摘要： 沉积速率是磁控溅射镀膜技术中的一项重要指标,它由许多因素决定.为了定性地了解沉积速率与工作气压之间的关系,通过实验测定了不同工作气压下的沉积速率,发现存在一个最大值,并对应有一个最佳工作气压...
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摘要： 磁控溅射已经成为沉积薄膜的最重要的方法之一.然而,这种镀膜技术亦存在一些缺点(例如,有限的溅射产额和反应溅射过程中等离子体不稳定等问题),所以它不适宜于在介质膜工业生产中应用.本文介绍了一种...
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13. 溅射靶材的制备与应用摘要： 在信息产业不少基础产品的制造过程中，需使用多种溅射靶材，本文简介溅射靶材的制造及主要应用情况。...
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摘要： 首先介绍了铜铟镓硒薄膜太阳能电池结构、性能特点以及目前在研究和生产过程中电池的制备方法和工艺;着重阐述了工业发达国家以及相应大公司在铜铟镓硒薄膜太阳能电池方面最新进展以及发展趋势,特别介绍了...
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15. 磁控溅射镀膜设备中靶的优化设计摘要： 磁控溅射已发展为工业镀膜生产中最主要的技术之一.对在镀膜批量生产中普遍存在的靶材利用率、溅射速率和沉积速率低以及溅射过程不稳定等突出问题,固然可用优化电源设计和调整工艺参数等加以改善,但根本...
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16. 二氧化钒薄膜在智能窗方面应用研究摘要： 二氧化钒是一种热致变色材料,相变温度为68℃.相变前后二氧化钒光学性能有较大的变化,如二氧化钒对红外线透过率低温态时大,高温态时小.利用这一特点,在玻璃基体上沉积二氧化钒薄膜,可实现对汽车、...
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摘要： 高功率脉冲磁控溅射技术(HPPMS)作为一种溅射粒子离化率高、可以沉积致密、高性能薄膜的新技术已经在国外广泛研究,但在国内尚未见研究报道.本文介绍了近十年来HPPMS技术在电源、脉冲形式、放...
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摘要： 对真空发生器的抽吸机理和影响其工作性能的因素进行了分析研究,并介绍了提高真空发生器吸入流量的方法....
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摘要： 报道了中频双靶反应磁控溅射制备二氧化硅(SiO2)薄膜的装置、工艺及薄膜特性.对制备的SiO2薄膜的化学配比和元素化学态进行了SAM和XPS分析,测试了膜层对钠离子(Na+)阻挡性能、光学折...
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20. 扫描电子显微镜成像信号分析摘要： 介绍了扫描电子显微镜(SEM)的基本工作原理,着重分析了在SEM初始电子束作用下,各种成像信号产生的方式及其特点,确定二次电子信号因成像分辨率高、携带成像信息丰富而成为SEM的最终信号源.针...
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摘要： 从理论上分析了平面磁控溅射靶沉积薄膜的厚度均匀性.根据磁控溅射阴极靶刻蚀的实际测量数据,建立了靶的刻蚀速率方程,以此为依据,对膜厚均匀性的有关公式进行了讨论.采用计算机计算了基片处于不同靶-...
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摘要： 本文在探讨镀膜玻璃一些基本问题的基础上，阐述了磁控溅射在玻璃涂层技术中的应用机理、靶的结构、靶材的选取、提高膜层质量以及镀膜玻璃的应用及发展前景等问题。...
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23. 发展中的真空冷冻干燥技术摘要： 介绍真空冷冻干燥设备、工艺和理论研究的现状,找出存在的问题,预测今后的发展前景....
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24. 分子泵的世纪回顾与展望摘要： 分子泵自1912年诞生以来，至今已快近一个世纪了。它在初期进展较缓慢，在1970年以前，分子泵的应用还仅限于核物理、电真空、表面科学等领域。但近20年来由于半导体产业的兴起和薄膜工业的发展，...
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25. TiO2薄膜的制备方法及应用摘要： TiO2薄膜具有良好的电学性能,优异的光学性能, 化学稳定性高,机械强度高,长期以来受到人们的关注,已经广泛应用在电子、光学、医学等方面.本文简单介绍了TiO2薄膜的制备方法及应用....
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26. 备件消耗预测与备件储备定额的确定摘要： 只有准确的预测备件消耗趋势,才能合理确定备件储备定额,降低生产成本.用"趋势修正移动平均预测法"来预测备件消耗趋势,从而确定备件储备定额,可以节省一半以上的费用及流动资金....
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摘要： 以理论模型计算和实验样品测试相对比的方法,研究了两种不同芯材真空绝热板导热系数与板内真空度之间的关系,利用逆真空法对真空绝热板板内压力进行了测试.探讨了真空绝热板制作工艺参数,保持板内真空度...
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28. 等离子体显示的发展现状和前景展望摘要： 从彩色PDP基本结构和工作原理入手,分析目前彩色PDP的优缺点,围绕着如何改善性能,降低成本,介绍了目前世界各大公司和研究机构在改进PDP的结构、材料、驱动电路等方面所作的工作和相应的理论研...
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29. 真空冷冻干燥的现状与展望(一)摘要： 本文从真空冷冻干燥的理论、设备、工艺和应用几个方面介绍其发展的历史和现状,讨论未来的发展趋势.现代真空冷冻干燥理论研究的重点是微纳尺度和超常传热传质;设备的发展方向是连续式冻干设备和过程控制...
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30. 干式螺杆真空泵研究现状与展望摘要： 介绍目前螺杆式真空泵现状,分析了螺杆端面型线研究情况和整机冷却中存在的问题,并对下一步的研究方向进行了展望....
真空基本信息
| 刊名 | 真空 | 主编 | 陆国柱 |
| 曾用名 | 真空技术报导 | ||
| 主办单位 | 中国机械工业集团公司沈阳真空技术研究所 | 主管单位 | 机械工业部期刊管理办公室 中国机械工业集团公司沈阳真空技术研究所 |
| 出版周期 | 双月刊 | 语种 |
chi
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| ISSN | 1002-0322 | CN | 21-1174/TB |
| 邮编 | 110042 | 电子邮箱 | zkzk@chinajournal.net.cn |
| 电话 | 024-24134406 | 网址 | www.vacjour.cm |
| 地址 | 辽宁省沈阳市万柳塘路2号 |
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