真空期刊
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真空

Vacuum
曾用名: 真空技术报导

CACSTPCD

影响因子 1.1128
本杂志是中国真空界主要杂志之一。自1994年真空杂志转换经营机制以来,由我国真空企业界实力雄厚的厂家与杂志社联办成立董事会,并由真空学术界著名学者组成编委会。社会效益与经济效益与日俱增,在国内真空界享有盛誉。自1989年公开发行以来,被美国、英国、德国、日本、意大利、韩国以及港澳地区越来越多的海外学者所关注。
主办单位:
中国机械工业集团公司沈阳真空技术研究所
期刊荣誉:
中国期刊网、光盘国家工程中心用刊  工程技术类核心期刊 
ISSN:
1002-0322
CN:
21-1174/TB
出版周期:
双月刊
邮编:
110042
地址:
辽宁省沈阳市万柳塘路2号
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  • 作者: 张群 李喜峰 李桂锋 杨铭
    刊名: 真空
    发表期刊: 2010年5期
    页码:  1-4
    摘要: 采用直流磁控溅射法制备了掺钨氧化铟(IWO)透明导电薄膜.研究了薄膜结构、表面形貌、光学和电学性能与各种制备参数之间的依赖关系.X射线衍射(XRD)谱分析结果表明随着基底温度的升高,薄膜的结...
  • 作者: 张鹏飞 李建平 蔡妍 陆峰 陶春虎
    刊名: 真空
    发表期刊: 2010年5期
    页码:  5-8
    摘要: 采用电弧离子镀技术(AIP)在NiCrAlY涂层与镍基高温合金(DD3合金)之间沉积TiC薄膜作为扩散障层,研究了TiC对NiCrAlY涂层与基体的元素互扩散的阻碍作用和对涂层氧化动力曲线的...
  • 作者: 于盛旺 唐伟忠 李晓静 胡浩林 许恒志 高春雨
    刊名: 真空
    发表期刊: 2010年5期
    页码:  9-12
    摘要: 微波等离子体化学气相沉积法(MPCVD)是制备高品质金刚石膜的重要方法,而MPCVD技术的关键是其设备核心部件谐振腔的设计.本文基于目前广泛应用的圆柱式和椭球式两种MPCVD谐振腔中微波传输...
  • 作者: 冯红亮 张增院 梁艳 郜小勇 马姣民
    刊名: 真空
    发表期刊: 2010年5期
    页码:  13-15
    摘要: 利用直流反应磁控溅射技术,在玻璃衬底上制备了氧化银薄膜.X射线衍射和扫描电子显微镜表明制备的氧化银薄膜主要由Ag和Ag2O组成,具有疏松、多孔的表面特征.制备的氧化银薄膜经过5 min光快速...
  • 作者: 唐振方 李文科
    刊名: 真空
    发表期刊: 2010年5期
    页码:  16-19
    摘要: 在众多有关CIGS薄膜的制备实验条件中,温度是影响薄膜生长的重要因素之一.实验利用三步共蒸法在常温下沉积CIGS薄膜,而后对每一步制得的预制膜真空退火处理,系统研究了预置层退火温度对CIGS...
  • 作者: 李东临 武光明 王怡 王芳平 邢光建 郭瑞
    刊名: 真空
    发表期刊: 2010年5期
    页码:  20-23
    摘要: 利用射频磁控溅射技术在(100)Si和玻璃衬底上沉积系列Mg掺杂ZnO(x=0~0.20)薄膜,XRD分析结果表明,Zn1-xMgO薄膜均为六角纤锌矿结构,薄膜呈现出 c轴择优生长特性,但随...
  • 作者: 卢景霄 张宇翔 王俊平 陈庆东
    刊名: 真空
    发表期刊: 2010年5期
    页码:  24-27
    摘要: 通过激活能测试装置测量VHF-PECVD高速沉积的本征微晶硅薄膜,并对不同沉积功率、不同沉积压强条件下沉积制备的样品的激活能进行了分析研究.结果表明:在不同功率、不同气压沉积条件下沉积的微晶...
  • 作者:
    刊名: 真空
    发表期刊: 2010年5期
    页码:  27,34,48,59,67,75,79,85
    摘要:
  • 作者: 姜翠宁 王珏 闫都伦 黄启耀
    刊名: 真空
    发表期刊: 2010年5期
    页码:  28-30
    摘要: 绒面ZAO(ZnO:Al氧化锌铝)透明导电膜在硅基薄膜太阳能电池领域应用前景广阔,本文利用直流磁控溅射方法,采用氧化锌铝陶瓷靶材制备了ZAO透明导电膜,并用自制的腐蚀液对膜层进行腐蚀以便形成...
  • 作者: 刘孟寅 刘广庆 孙延东 李德军 龚杰
    刊名: 真空
    发表期刊: 2010年5期
    页码:  31-34
    摘要: 本文利用高真空离子束辅助沉积系统(IBAD)在室温下制备了ZrB2、WNx和一系列ZrB2/WNx纳米多层膜,利用XRD、SEM、XP-2台阶仪、纳米力学测试系统表征了薄膜的微结构和机械性能...
  • 作者: 姜宏伟 彭鸿雁 王军 陈奇 陈玉强 高福毅
    刊名: 真空
    发表期刊: 2010年5期
    页码:  35-38
    摘要: 采用直流热阴极等离子体化学气相沉积(PCVD)技术,在CH4:H2中加入N2改变等离子体能量分布状态,提高二次形核比例,制备纳米金刚石膜.在CH4:H2气体中,在不同压力和温度下,改变通入N...
  • 作者: 吴占雷 张茹 胡季帆 赵玛 韩周祥 魏剑英
    刊名: 真空
    发表期刊: 2010年5期
    页码:  39-44
    摘要: 气体传感器的应用越来越广泛,对气敏材料的研究也越来越深入.磁控溅射法是生产气敏薄膜的一种主要方法,本文重点介绍了用磁控溅射法制备的几种金属氧化物薄膜(SnO2、WO3、ZnO、TiO2、In...
  • 作者: 仪登利 熊晓航 闫绍峰
    刊名: 真空
    发表期刊: 2010年5期
    页码:  45-48
    摘要: 用中频反应磁控溅射技术制备了Al2O3:Ce3+的非晶薄膜.这些薄膜的光致发光峰是在370~395 nm之间,它来自于Ce3+离子的5d'激发态向基态4f1的两个劈裂能级的跃迁.发光强度依赖...
  • 作者: 梁业广 王德安 肖剑荣
    刊名: 真空
    发表期刊: 2010年5期
    页码:  49-52
    摘要: 采用射频等离子体增强化学气相沉积法制备了氟化类金刚石薄膜.利用俄歇电子能谱、绝缘电阻测试仪、耐压测试仪和QS电桥对样品组分和介电性能进行了表征、分析.结果表明:薄膜的介电常数εr在2.07~...
  • 作者: 卢景霄 朱志立 杨仕娥 谷锦华 郜小勇 陈永生
    刊名: 真空
    发表期刊: 2010年5期
    页码:  53-56
    摘要: 本文采用VHF-PECVD技术制备了两个不同硅烷浓度(SC)系列的微晶硅薄膜,通过椭圆偏振技术研究了微晶硅薄膜的微结构和表面粗糙度随沉积时间的变化.实验结果表明:随着薄膜厚度的增加,两个系列...
  • 作者: 朱元强
    刊名: 真空
    发表期刊: 2010年5期
    页码:  57-59
    摘要: 利用数学理论模型对平面行星夹具进行膜厚分布分析;然后采用电子束蒸发技术,以常用的Ta2O5和SiO2作为镀膜材料,在该行星夹具上分别沉积一定厚度的Ta2O5和SiO2单层膜,通过对光谱曲线的...
  • 作者: 张宝夫 张泽武 李春影
    刊名: 真空
    发表期刊: 2010年5期
    页码:  60-62
    摘要: 目前罗茨真空泵验收规范中采用零流量压缩比和最大允许压差来考核罗茨真空泵的性能.本文作者根据实际应用及可操作性,建议采用零流量压缩比和罗茨真空泵的排气口气体温度考核罗茨真空泵的性能.由于零流量...
  • 作者: 周敬宣 李旻 高飞
    刊名: 真空
    发表期刊: 2010年5期
    页码:  63-67
    摘要: 空气射流真空器是长途客车车载真空厕所的动力源,具有一定压力的压缩空气通过该射流器将产生抽吸便器内污水所需的负压.利用FLUENT软件对其内部流场进行非稳态数值模拟,分析了在一定工况条件下,面...
  • 作者: 宋瑞海 张涤新 成永军 赵澜
    刊名: 真空
    发表期刊: 2010年5期
    页码:  68-71
    摘要: 采用虚拟仪器技术开发了一个气体压力的自动测控系统,并用于高精度气体微流量计.本文详细介绍了高精度气体流量计压力系统的工作原理,及其压力测控系统的硬件组成和软件设计.系统的硬件部分使用台湾研华...
  • 作者: 刘亮 潜力 王昱权 范守善
    刊名: 真空
    发表期刊: 2010年5期
    页码:  72-75
    摘要: 采用双向电泳法,在原子力显微镜探针尖端组装了单根碳纳米管,在真空环境下对比测量了单根碳纳米管蒸镀低逸出功材料HfC前后场致发射电流曲线和电流噪声的特点.证明了HfC蒸镀在碳纳米管上能够显著降...
  • 作者: 刘冬 董海青 许鲜欣
    刊名: 真空
    发表期刊: 2010年5期
    页码:  76-79
    摘要: 印刷电路板(PCB)在现代电子设备中起着至关重要的作用,其可靠性对电子设备有很大的影响.本文基于模态理论利用ANSYS工具对PCB进行仿真,主要分析其定位孔和芯片布局对一阶固有频率的影响,并...
  • 作者: 尹中荣 张乃禄 张嘉 李选锋 李鑫
    刊名: 真空
    发表期刊: 2010年5期
    页码:  80-82
    摘要: 针对大型稀有金属板材真空退火炉加热工艺特点以及炉室容积大、加热温区多、检测与控制不一致性等,提出基于Fuzzy-PID的控温与均温策略,并进行了实际控温与均温控制测试分析.生产运行表明,系统...
  • 作者: 冯乃祥 彭建平 狄跃忠 胡文鑫
    刊名: 真空
    发表期刊: 2010年5期
    页码:  83-85
    摘要: 以Al-Si-Fe合金为还原剂,采用真空热还原白云石煅白制取金属镁.通过对还原温度、还原时间、还原剂过量系数、制团压力以及氟盐的添加对还原过程的影响分析,确定本工艺最佳工艺条件为:还原温度1...
  • 作者: 张以忱
    刊名: 真空
    发表期刊: 2010年5期
    页码:  86-88
    摘要:

真空基本信息

刊名 真空 主编 陆国柱
曾用名 真空技术报导
主办单位 中国机械工业集团公司沈阳真空技术研究所  主管单位 机械工业部期刊管理办公室 中国机械工业集团公司沈阳真空技术研究所
出版周期 双月刊 语种
chi
ISSN 1002-0322 CN 21-1174/TB
邮编 110042 电子邮箱 zkzk@chinajournal.net.cn
电话 024-24134406 网址 www.vacjour.cm
地址 辽宁省沈阳市万柳塘路2号

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