真空期刊
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真空

Vacuum
曾用名: 真空技术报导

CACSTPCD

影响因子 1.1128
本杂志是中国真空界主要杂志之一。自1994年真空杂志转换经营机制以来,由我国真空企业界实力雄厚的厂家与杂志社联办成立董事会,并由真空学术界著名学者组成编委会。社会效益与经济效益与日俱增,在国内真空界享有盛誉。自1989年公开发行以来,被美国、英国、德国、日本、意大利、韩国以及港澳地区越来越多的海外学者所关注。
主办单位:
中国机械工业集团公司沈阳真空技术研究所
期刊荣誉:
中国期刊网、光盘国家工程中心用刊  工程技术类核心期刊 
ISSN:
1002-0322
CN:
21-1174/TB
出版周期:
双月刊
邮编:
110042
地址:
辽宁省沈阳市万柳塘路2号
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  • 作者: 张以忱
    刊名: 真空
    发表期刊: 2013年4期
    页码:  86-88
    摘要:
  • 作者: 但敏 尹星 杨发展 沈丽如 许泽金 金凡亚
    刊名: 真空
    发表期刊: 2013年5期
    页码:  1-5
    摘要: 采用高功率复合脉冲磁控溅射技术(HPPMS)在316不锈钢、硬质合金基体上沉积了TiN薄膜,研究不同N2流量下TiNx膜层的沉积速率、硬度、晶体生长取向、摩擦磨损等性能,并在相同的平均靶电流...
  • 作者: 宫骏 巴德纯 杜广煜 王栋 陈小龙
    刊名: 真空
    发表期刊: 2013年5期
    页码:  6-8
    摘要: EB-PVD是以高能电子束为热源的一种蒸发镀膜技术.在真空的环境下,高能离子束轰击靶材(金属,陶瓷等),使其融化、升华、蒸发,最后沉积在基片上.由于EB-PVD技术具有蒸发和沉积速率高,涂层...
  • 作者: 和江变 李健 董斌华
    刊名: 真空
    发表期刊: 2013年5期
    页码:  9-13
    摘要: 真空蒸发在载玻片上沉积CuInS2薄膜(Cu、In、S原子配比为1∶0.1∶1.2).摸索CuInS2薄膜发生导电类型转换最有效的热处理条件,研究不同热处理工艺对CuInS2薄膜的结构、表面...
  • 作者: 周勋 李琼敏 韦俊 黄代洪
    刊名: 真空
    发表期刊: 2013年5期
    页码:  14-16
    摘要: 本文利用磁控溅射的方法生长不同Cr插层厚度的Pd/Cr/Co多层膜,并利用椭偏仪对多层膜的光学常数进行测量.得到了入射光波长在250nm-850nm范围内多层膜的折射率、反射率、吸收系数以及...
  • 作者: 李林青 王光伟
    刊名: 真空
    发表期刊: 2013年5期
    页码:  17-20
    摘要: 用射频磁控溅射在单晶硅上沉积Si1-xGex薄膜.溅射的SiGe薄膜样品,用俄歇电子谱(AES)测定其Ge含量,约为17%,即Si0.83Ge0.17.样品分别做高温磷、硼扩散,经XRD测试...
  • 作者: 张晔 李长生 殷春云
    刊名: 真空
    发表期刊: 2013年5期
    页码:  21-24
    摘要: 在同一次双靶共溅射过程中,通过改变基体相对于靶材的位置制备了不同化学成份TiAl系金属间化合物薄膜.采用EDS、XRD、SEM、AFM等手段对薄膜的成分、物相结构和表面形貌进行了表征,并对薄...
  • 作者: 吴春雷 张军 李明 郑友进 黄海亮
    刊名: 真空
    发表期刊: 2013年5期
    页码:  25-27
    摘要: 在CH4/H2气氛下,利用直流热阴极PCVD(plasma chemical vapor deposition)设备,在高CH4流量下制备纳米金刚石膜.对制备的样品通过扫描电子显微镜、拉曼光...
  • 作者: 侯荣华 汪光武 陆阳
    刊名: 真空
    发表期刊: 2013年5期
    页码:  28-30
    摘要: 本文对XJPD-900磁控溅射生产线的控制系统进行了设计,重点对应用PLC和iFix组态软件实现工艺过程自动控制以及EXCEL表格数据存储等的程序做了设计分析,完成了整机的工艺试验.设备使用...
  • 作者: 杨生胜 田立成 石红 薛玉雄
    刊名: 真空
    发表期刊: 2013年5期
    页码:  31-34
    摘要: 航天器表面充电到高静电位会导致静电放电(ESD),从而影响甚至破坏卫星电子器件.静电放电事件大多与各种表面材料之间的差异带电有关,因此研究不同表面材料在空间的充电电位对于控制航天器表面静电放...
  • 作者: 李宏 赵希洋
    刊名: 真空
    发表期刊: 2013年5期
    页码:  35-37
    摘要: 本文针对真空电弧炉直流电源在熔炼阶段数字PID控制存在电流超调与响应速度矛盾的问题,提出了模糊控制和PID控制相结合的控制策略,着重介绍了模糊控制方法的应用,并在Matlab中对单个电源模块...
  • 作者: 石磊 解永蓉
    刊名: 真空
    发表期刊: 2013年5期
    页码:  38-40
    摘要: 建立了一个三维真空热处理炉的非线性有限元模型,该模型的热源是电流通过加热体产生的焦耳热,传热途径主要考虑了加热体与内屏蔽层间、各屏蔽层之间的非线性辐射传热.利用有限元软件ANSYS对真空热处...
  • 作者: 姜文全 巴德纯 王晓冬 韩杰
    刊名: 真空
    发表期刊: 2013年5期
    页码:  41-44
    摘要: 循环流量是判断RH真空脱气装置精炼效率的重要指标之一.本文针对某钢厂180t RH真空精炼装置,基于计算流体动力学(CFD)方法,建立了RH真空精炼过程中气泡驱动的气-液两相流动理论模型,并...
  • 作者: 刘建民 胡显军 贺莹莹 阚鹏程
    刊名: 真空
    发表期刊: 2013年5期
    页码:  45-48
    摘要: 在真空感应炉中冶炼低碳高氧高硫易切削钢,其中氧含量的控制是一个难点.本文设计四种不同的冶炼方案,研究氧化铁皮的加入量、炉内真空度、合金加入顺序以及炉内保护气体种类等因素对钢液中氧含量的影响....
  • 作者: 卢耿 杨华飞 罗根松 蒋招巧 金鑫
    刊名: 真空
    发表期刊: 2013年5期
    页码:  49-52
    摘要: 本文讨论了容积真空泵工作中解决水蒸气在泵内凝结的方法,如热泵技术、滑阀水环泵组合结构和气镇原理等.提出了相对于国际标准更完整、更确切的水蒸气容限和水蒸气抽出量的定义,论述了水蒸气容限测量方法...
  • 作者: 刘旸
    刊名: 真空
    发表期刊: 2013年5期
    页码:  53-55
    摘要: 借用气缸的推拉力,设计了一种新型门压紧机构,代替原来靠人工转动的纯机械式门压紧机构.该机构结构简单,操作方便,省事省力,且制造成本低,使用寿命长.在实际的应用过程中,生产效率提升明显.
  • 作者: 曹明轩 董长昆
    刊名: 真空
    发表期刊: 2013年5期
    页码:  56-62
    摘要: 电泳法是一种工艺简洁、低能耗、低成本的薄膜制备工艺.基于电泳技术的碳纳米管薄膜具有对基底类型和形状要求低、常温操作等优势,尤其适宜于在复杂不规则基底和低熔点材料上的应用.在阐述了电泳法的工艺...
  • 作者: 关磊 张祖康 王莹 盛化飞 范文婷 高威
    刊名: 真空
    发表期刊: 2013年5期
    页码:  63-66
    摘要: 氧化铁纳米材料具有不同的形貌和结构,包括纳米颗粒、纳米棒、纳米带和纳米薄膜等.它们优异的物理和化学性质在众多领域内显示出广阔的应用前景,如催化、磁性材料和生物医学等领域.制备具有新颖形貌和结...
  • 作者: 孙企达 陈德
    刊名: 真空
    发表期刊: 2013年5期
    页码:  67-69
    摘要: 真空冷冻干燥(简称冻干FD)是发展近代生物医药工程与中药现代化的关键高新技术,近年来,日本将中国名贵中药天麻制成超细粉体胶囊(粉体中心粒径D50~50μm),用来取代西药治疗失眠,取得很好效...
  • 作者: 伍智 唐国云 李剑 李蓉 陈虎
    刊名: 真空
    发表期刊: 2013年5期
    页码:  70-71
    摘要: 本文对R2Co17磁柱零件的表面净化工艺加以改进,采用电化学工艺,效果良好.结果表明,R2Co17稀土钴磁柱零件采用电化学净化工艺,表面残留磁粉少,表面平整光亮,更好地满足了真空器件对该零件...
  • 作者: 乔红贞 苏茂根
    刊名: 真空
    发表期刊: 2013年5期
    页码:  72-74
    摘要: 利用Nd:YAG脉冲激光在空气中烧蚀Cu靶,产生激光等离子体羽,通过改变离焦量获得相应的等离子体的空间谱;用光谱学方法分析了三种离焦量下空间谱线结构和空间等离子体的电子温度演化规律;并对等离...
  • 作者: 吴晓玲 吴正龙 孙佳 廖斌 林华 梁宏 程南璞 覃礼钊
    刊名: 真空
    发表期刊: 2013年5期
    页码:  75-78
    摘要: 采用MEVVA源将低能量(40 keV)C离子注入单晶硅,用Raman光谱和SEM对试样进行了表征,用纳米压痕仪和球-盘式摩擦磨损试验机分别测试了试样硬度、弹性模量和摩擦因数.结果显示,低剂...
  • 作者: 张以忱
    刊名: 真空
    发表期刊: 2013年5期
    页码:  79-80
    摘要:
  • 作者:
    刊名: 真空
    发表期刊: 2013年5期
    页码:  85-88
    摘要:
  • 作者: 何利民 李迪敏 甄洪滨 纪锡旺 许振华 郝俊文
    刊名: 真空
    发表期刊: 2013年6期
    页码:  1-6
    摘要: 采用等离子体增强化学气相沉积(PECVD)、磁控溅射和阴极电弧离子镀技术相结合的方法,合理利用金属Cr靶和TiAl靶,选择性地在硬质合金基体上沉积了具有不同中间层(Cr、TiAl、TiAlN...
  • 作者: 文振华 田修波 蒋志强 魏永强
    刊名: 真空
    发表期刊: 2013年6期
    页码:  7-10
    摘要: 针对电弧离子镀制备薄膜产生的大颗粒问题,本文主要研究了大颗粒在薄膜中的分布状态.根据大颗粒尺寸和薄膜厚度之间的比例关系,将其划分为三种类型:表面缺位型、镶嵌型和完全贯穿型,其中镶嵌型又划分为...
  • 作者: 王德山
    刊名: 真空
    发表期刊: 2013年6期
    页码:  11-14
    摘要: 介绍了复杂型腔工件表面薄膜涂覆机理与技术特点,针对复杂工件镀膜过程中存在靶材消耗不均匀产生凹状侵蚀环、薄膜厚度不均匀致密等诸多问题,实验采用旋转式柱状磁控溅射靶,在镀膜机的不同位置安装多靶多...
  • 作者:
    刊名: 真空
    发表期刊: 2013年6期
    页码:  14,85-87
    摘要:
  • 作者: 冯松 刘永生 李蓉萍 田磊 邹凯
    刊名: 真空
    发表期刊: 2013年6期
    页码:  15-18
    摘要: 按不同比例混合CdTe和CdSe两种化合物,利用真空蒸发法在玻璃衬底上制备了CdSexTe1-x三元化合物薄膜,分别利用XRD、SEM、EDX、XPS、紫外-可见分光光度计对薄膜的物相结构、...
  • 作者: 刘志学 张冰 赵立萍 陈薇薇
    刊名: 真空
    发表期刊: 2013年6期
    页码:  19-22
    摘要: 本文采用射频反应磁控溅射法溅射ZnO靶,直流磁控溅射法溅射Cu靶,在玻璃衬底上制备了不同复合结构的Cu、ZnO透明导电薄膜,研究了Cu层溅射时间对薄膜结构形貌和光电性能的影响.结果表明Cu夹...

真空基本信息

刊名 真空 主编 陆国柱
曾用名 真空技术报导
主办单位 中国机械工业集团公司沈阳真空技术研究所  主管单位 机械工业部期刊管理办公室 中国机械工业集团公司沈阳真空技术研究所
出版周期 双月刊 语种
chi
ISSN 1002-0322 CN 21-1174/TB
邮编 110042 电子邮箱 zkzk@chinajournal.net.cn
电话 024-24134406 网址 www.vacjour.cm
地址 辽宁省沈阳市万柳塘路2号

真空评价信息

期刊荣誉
1. 中国期刊网、光盘国家工程中心用刊
2. 工程技术类核心期刊

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