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用于ESD防护的PDSOI NMOS器件高温特性
用于ESD防护的PDSOI NMOS器件高温特性
作者:
王加鑫
李晓静
赵发展
曾传滨
李博
韩郑生
罗家俊
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
静电放电(ESD)
绝缘体上硅(SOI)
NMOSFET
高温
传输线脉冲(TLP)
摘要:
研究了基于0.18 μm 部分耗尽型绝缘体上硅(PDSOI)工艺的静电放电(ESD)防护NMOS 器件的高温特性.借助传输线脉冲(TLP)测试系统对该ESD 防护器件在30~195℃内的ESD 防护特性进行了测试.讨论了温度对ESD 特征参数的影响,发现随着温度升高,该ESD 防护器件的一次击穿电压和维持电压均降低约11%,失效电流也降低近9.1%,并通过对器件体电阻、源-体结开启电压、沟道电流、寄生双极结型晶体管(BJT)的增益以及电流热效应的分析,解释了ESD 特征参数发生上述变化的原因.研究结果为应用于高温电路的ESD 防护器件的设计与开发提供了有效参考.
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文献信息
篇名
用于ESD防护的PDSOI NMOS器件高温特性
来源期刊
半导体技术
学科
关键词
静电放电(ESD)
绝缘体上硅(SOI)
NMOSFET
高温
传输线脉冲(TLP)
年,卷(期)
2021,(3)
所属期刊栏目
半导体器件|Semiconductor Devices
研究方向
页码范围
210-215
页数
6页
分类号
TN402
字数
语种
中文
DOI
10.13290/j.cnki.bdtjs.2021.03.007
五维指标
传播情况
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引文网络
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2021(0)
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研究主题发展历程
节点文献
静电放电(ESD)
绝缘体上硅(SOI)
NMOSFET
高温
传输线脉冲(TLP)
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
半导体技术
主办单位:
中国电子科技集团公司第十三研究所
出版周期:
月刊
ISSN:
1003-353X
CN:
13-1109/TN
开本:
大16开
出版地:
石家庄179信箱46分箱
邮发代号:
18-65
创刊时间:
1976
语种:
chi
出版文献量(篇)
5044
总下载数(次)
38
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