半导体学报(英文版)期刊
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半导体学报(英文版)

Journal of Semiconductors
曾用名: 半导体学报

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影响因子 0.2430
本学报是由中国电子学会主办,中国科学院半导体研究所承办的学术刊物,报道半导体物理学和半导体科学技术领域内最新的科研成果和技术进展,被EI、CA、SA等收录,在中国科学院、国家科委、中共中央宣传部和国家新闻出版署的期刊评比中多次获奖。主要栏目有:研究快报、研究论文、研究简报、技术进展等。
主办单位:
中国电子学会和中国科学院半导体研究所
期刊荣誉:
中科院优秀期刊二等奖(90)  全国优秀期刊三等奖(92)  全国优秀期刊三等奖(97) 
ISSN:
1674-4926
CN:
11-5781/TN
出版周期:
月刊
邮编:
100083
地址:
北京912信箱
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6983
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  • 作者: 李永明 林敏 王海永 陈弘毅
    发表期刊: 2003年3期
    页码:  322-326
    摘要: 提出了一种频率可调范围约230MHz的全集成LC压控振荡器(VCO).该压控振荡器是用6层金属、0.18μm的标准CMOS工艺制造完成.采用MOS晶体管和电容组合来实现等效变容管,为降低芯片...
  • 作者: 姚依 张文俊 李钊 杨之廉 谢晓锋 阮骏 鲁勇
    发表期刊: 2003年3期
    页码:  327-331
    摘要: 随着器件尺寸的缩小,器件特性空间变得越来越复杂.如果仍采用手工参数调整的方法,不仅需要有较好的器件物理知识,而且也不一定能得到合适的结果.为节约设计时间,对半导体器件建模与优化系统(MOSS...
  • 作者: 张大成 李修函 李婷 杜先锋 王小保 王玮 王翔 阮勇
    发表期刊: 2003年3期
    页码:  332-336
    摘要: 通过将压阻加速度计上帽与结构片的键合(365℃保温10min),再进行下帽与结构片的键合(380±10℃保温20min),成功进行了三层键合.测得的键合强度约为230MPa.硅片-基体/Si...
  • 作者: 庄惠照 杨利 王翠梅 薛成山 魏芹芹
    发表期刊: 2003年4期
    页码:  337-341
    摘要: 通过氨化射频溅射工艺生长Ga2O3薄膜,在石英衬底上成功地合成了六方GaN纳米棒.用X射线衍射(XRD)、扫描电镜(SEM)、高分辨率透射电镜(HRTEM)和光致发光光谱(PL)对生成的产物...
  • 作者: 周帆 王圩 董杰 邱伟彬
    发表期刊: 2003年4期
    页码:  342-346
    摘要: 研究了利用低压MOVPE宽条(15μm)选区外延生长InGaAsP的性质.研究了生长速率、厚度增强因子、带隙调制、组分调制随着生长条件如掩模宽度、生长压力、Ⅲ族源流量的变化规律,给出了合理的...
  • 作者: 任晓敏 吴荣汉 周震 张玮 张瑞康 徐应强 杜云 杨晓红 牛智川 黄永清
    发表期刊: 2003年4期
    页码:  347-350
    摘要: 利用GaAs/AlGaAs分布反馈Bragg反射镜在GaAs衬底上制作了一个微机械的调谐滤波器.该器件在7V调谐电压下调谐范围达28nm.
  • 作者: 徐秋霞 殷华湘
    发表期刊: 2003年4期
    页码:  351-356
    摘要: 介绍了一种制作在普通体硅上的CMOS FinFET.除了拥有和原来SOI上FinFET类似的FinFET结构,器件本身在硅衬底中还存在一个凹槽平面MOSFET,同时该器件结构与传统的CMOS...
  • 作者: 严晓浪 史峥 王国雄 陈志锦 高根生
    发表期刊: 2003年4期
    页码:  357-361
    摘要: 光学邻近校正(OPC)系统要求一种精确、快速的方法来预测掩模图形转移到硅圆片的成像结果.基于Gabor的"降解为主波"方法,一个部分相干成像系统可以用相干成像系统的叠加来近似,并用高斯过滤器...
  • 作者: 曾一平 朱占平 段瑞飞 王宝强
    发表期刊: 2003年4期
    页码:  362-365
    摘要: 用接触式原子力显微镜来观察460℃低温下生长的In0.35Ga0.65As/GaAs外延层形貌.实验发现,这种460℃低温生长材料的失配外延层既不是层状的FvdM生长模式也不是岛状的SK自组...
  • 作者: 王志功 田磊 董毅 谢世钟 谢婷婷 陆建华 陈志恒 陈海涛
    发表期刊: 2003年4期
    页码:  366-369
    摘要: 实现了一个基于触发器结构用0.35μm CMOS工艺实现的1∶8分频器.它由3级1∶2 分频器单元组成,其中第一级为动态分频器,决定了整个芯片的性能,第二、三级为静态分频器,在低频下能稳定工...
  • 作者: 丁琨 刘南竹 方再利 朱作明 李国华 苏付海 苏萌强 葛惟锟 韩和相 马宝珊
    发表期刊: 2003年4期
    页码:  370-376
    摘要: 研究了ZnS1-xTex(0.02≤x≤0.3)混晶的静压光致发光谱.每块样品都观察到一个峰值比相应混晶带隙低很多的发光峰,来源于束缚在Ten(n≥2)等电子陷阱上的激子复合发光,且随压力(...
  • 作者: 侯晓远 俞根才 史向华 王兴军
    发表期刊: 2003年4期
    页码:  377-380
    摘要: 用分子束外延方法在GaAs(100)衬底上生长了高质量的ZnSe/ZnSxSe1-x(x=0.12)超晶格结构,通过X射线衍射谱和光致发光谱,对其结构特性和光学特性进行了研究.结果表明:在4...
  • 作者: 孔祥贵 宋宏伟 张家骅 许武 邓文渊 马少杰
    发表期刊: 2003年4期
    页码:  381-386
    摘要: 采用射频(RF)反应共溅射法制备了a-SiOxNy∶Er3+薄膜,在不同温度下进行退火处理,并测量了样品的可见及红外发光PL谱,观察到Er3+在550nm、525nm和1532nm的发光以及...
  • 作者: 庄惠照 杨莺歌 薛成山 郝晓涛 马洪磊 马瑾
    发表期刊: 2003年4期
    页码:  387-390
    摘要: 报道了用溅射后退火反应法在GaAs (110) 衬底上制备GaN薄膜.XRD、XPS、TEM测量结果表明该方法制备的GaN是沿c轴方向生长的六角纤锌矿结构的多晶薄膜.PL测量结果发现了位于3...
  • 作者: 宋跃 邹雪城
    发表期刊: 2003年4期
    页码:  391-395
    摘要: a-Si∶H TFT的栅源几何交迭会引起几何寄生电容,实验研究表明它并不能完全表征TFT的寄生效应,研究发现由栅极和源极形成的电场的电力线交迭也会导致物理寄生效应且这种效应始终存在.从LCD...
  • 作者: 周蓉 张庆中 李肇基 胡思福
    发表期刊: 2003年4期
    页码:  396-400
    摘要: 给出了双极RF功率管新的深阱结终端结构.模拟分析表明,具有优化宽度、优化深度且填充绝缘介质的深阱结终端结构能使雪崩击穿电压提高到理想值的95%以上.实验结果表明,深阱结终端结构器件DCT26...
  • 作者: 吕苗 梁春广 顾洪明 高葆新
    发表期刊: 2003年4期
    页码:  401-405
    摘要: 对采用MEMS开关的E类放大器进行了原型仿真,并且通过工艺流片制作MEMS开关,搭建E类放大器电路进行测试.测试结果显示,这种机械式的放大器同样能实现有源放大器的功能.测试得到的放大器实际效...
  • 作者: 刘新宇 吴德馨 和致经 孙海峰 王延锋
    发表期刊: 2003年4期
    页码:  406-410
    摘要: 对自对准InGaP/GaAs HBT单片集成跨阻放大器进行了研究.采用发射极金属做腐蚀掩膜并利用GaAs腐蚀各向异性的特点来完成BE金属自对准工艺,最终制作出的器件平均阈值电压为1.15V,...
  • 作者: 刘明 刘训春 张海英 王云翔 石华芬 陈宝钦
    发表期刊: 2003年4期
    页码:  411-415
    摘要: 提出了一种新的PMMA/PMGI/PMMA三层胶复合结构,通过一次对准和电子束曝光、多次显影在InP PHEMT材料上制作出高成品率的T型纳米栅.在曝光显影条件变化20%的情况下,InP H...
  • 作者: 曾晓军 李天望 洪志良
    发表期刊: 2003年4期
    页码:  416-420
    摘要: 对传统分频器电路工作在低电压(1V)时存在的问题进行了分析,在此基础上提出了一种新的分频器电路结构,将NMOS和PMOS管的直流偏置电压分开,有效地解决了分频器在低电压下工作所存在的问题.采...
  • 作者: 周润德 戴宏宇
    发表期刊: 2003年4期
    页码:  421-426
    摘要: 钟控准静态能量回收逻辑(clocked quasi-static energy recovery logic,CQSERL)只在输入信号导致输出状态发生变化的情况下才对电路节点充电(或者回收...
  • 作者: 周润德 戴宏宇 王乃龙
    发表期刊: 2003年4期
    页码:  427-432
    摘要: 介绍了一种综合考虑集成电路电学性能指标以及热效应影响的布局优化方法.在保证传统设计目标(如芯片面积、连线长度、延迟等)不被恶化的基础上,通过降低或消除芯片上的热点来优化集成电路芯片的温度分布...
  • 作者: 刘玉岭 王弘英 郝景晨 魏碧华
    发表期刊: 2003年4期
    页码:  433-437
    摘要: 在超大规模集成电路(ULSI)铜布线工艺中,采用阻挡层来提高铜与衬底的粘附性,主要是为了防止铜原子向介质或衬底中扩散.为了达到全局平面化,就需要克服阻挡层金属与布线金属铜因化学和物理性质的不...
  • 作者: 刘毅 洪先龙 蔡懿慈 赵萌
    发表期刊: 2003年4期
    页码:  438-444
    摘要: 提出了一种新的时钟布线算法,它综合了top-down和bottom-up两种时钟树拓扑产生方法,以最小时钟延时和总线长为目标,并把合理偏差应用到时钟树的构造中.电路测试结果证明,与零偏差算法...
  • 作者: 卜俊鹏 尹玉华 朱蓉辉 赵冀 郑红军
    发表期刊: 2003年4期
    页码:  445-448
    摘要: 在不同弹性抛光布、不同氧化浓度、不同pH值的抛光液等条件下进行了化学机械抛光试验,并用TEM测量了晶片亚表面损伤层厚度.研究发现抛光布的弹性及抛光液的氧化和化学去除能力决定了GaAs抛光晶片...
  • 作者: 刘忠立 刘焕章 宁瑾 葛永才
    发表期刊: 2003年5期
    页码:  449-453
    摘要: 提出了一种新的工艺方法制备硅基电容式微传声器.用氧化多孔硅作牺牲层制备空气隙,用约15μm厚的浓硼掺杂硅作为微传声器的刚性背极板.采用该方法制备的微传声器,在500Hz至11kHz的工作频率...
  • 作者: 张旭 张磊 彭应全
    发表期刊: 2003年5期
    页码:  454-460
    摘要: 在陷阱电荷限制电流传导理论的基础上,提出了双层有机电致发光器件的数值模型,研究了结构为"阳极/空穴输运层(HTL)/发光层(EML)/阴极"的器件中电流密度和量子效率随有机层的特征陷阱能量、...
  • 作者: 刘百勇 李斌 郑学仁 黎沛涛
    发表期刊: 2003年5期
    页码:  461-465
    摘要: 在薄膜SOI衬底上制备普通电阻结构的硅温度传感器,并具有令人满意的特性:即使在0.1mA的低偏置电流下,器件的最高温度工作温度仍能达到550℃.实验结果分析说明,当硅膜足够薄时,普通电阻结构...
  • 作者: 倪昊 徐元森
    发表期刊: 2003年5期
    页码:  466-471
    摘要: 论述了用CMOS工艺实现非接触式IC卡天线的集成化需要考虑的各个方面,建立了集成天线的模型,给出了合理的设计方案,并通过实验验证了模型和设计方案.实验结果表明,采用片上天线完全可以提供非接触...
  • 作者: 池保勇 石秉学
    发表期刊: 2003年5期
    页码:  472-475
    摘要: 描述了采用CMOS工艺技术,用于2.4GHz无线局域网收发机的上变频器/下变频器的实现.由于采用class-AB类工作模式的输入级,该下变频器具有很高的线性度.同时,该输入级也完成了输入阻抗...

半导体学报(英文版)基本信息

刊名 半导体学报(英文版) 主编 王守武
曾用名 半导体学报
主办单位 中国电子学会和中国科学院半导体研究所  主管单位 中国科学院
出版周期 月刊 语种
eng
ISSN 1674-4926 CN 11-5781/TN
邮编 100083 电子邮箱 jos@semi.ac.cn
电话 010-82304277 网址 www.jos.ac.cn
地址 北京912信箱

半导体学报(英文版)评价信息

期刊荣誉
1. 中科院优秀期刊二等奖(90)
2. 全国优秀期刊三等奖(92)
3. 全国优秀期刊三等奖(97)

半导体学报(英文版)统计分析

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