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微细加工技术

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Microfabrication Technology

CSTPCD

《微细加工技术》创刊于1983年，是国家科委和国家新闻出版署批准，国内外公开发行的中央级重要科技期刊。是国家一级检索刊物，已连续9年被美国工程信息公司Ei数据库收录，是《中国期刊网》、《中国学术期刊（光盘版）》、《中国学术期刊综合评价数据库》全文收录用刊，是《中国科学引文数据库》来源期刊。

主办单位：

中国电子科技集团公司第48研究所

期刊荣誉：

国家一级检索刊物用刊 美国工程信息公司Ei数据库收录

ISSN：

1003-8213

CN：

43-1140/TN

出版周期：

双月刊

邮编：

地址：

湖南省长沙市

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热门刊内文献

年度刊次

1. 第二代接近式X射线光刻技术

作者：谢常青

刊名：微细加工技术

发表期刊： 2006年1期

页码: 1-6

摘要：介绍了第二代PXL的原理和影响光刻分辨率的关键因素,当第二代PXL工艺因子为0.8时,对于50 nm及35 nm节点分辨率,掩模与硅片的间距可以分别达到10 μm和5 μm,表明第二代PXL...
2. CIF数据格式转换成PG3600数据格式的新切割算法

作者：李金儒汤跃科陈宝钦

刊名：微细加工技术

发表期刊： 2006年1期

页码: 7-12

摘要：为了编制能够运行于Windows操作系统且又能够挂靠在L-EDIT数据格式上的转换软件,提出了一种新的将微光刻图形CIF数据格式转换为PG3600数据格式的图形切割算法--沿边切割法,重点讨...
3. 电子束曝光机传输片机械手研制

作者：乔俊仙余国彬王肇志

刊名：微细加工技术

发表期刊： 2006年1期

页码: 13-15,26

摘要：以前的传输片机械手由于采用双浮动滑板结构来实现各个状态的定位,长时间使用易导致机械磨损、弹簧应力疲劳等,出现机械手碰撞片夹或抓不到片等现象,难以实现高精度、高可靠性的定位.研究中的传输片机械...
4. PMMA基PCR微流控生物芯片准分子激光加工

作者：姚李英左铁钏王桐祁恒陈涛

刊名：微细加工技术

发表期刊： 2006年1期

页码: 16-19

摘要：采用准分子激光在PMMA基片上刻蚀加工出PCR微流控生物芯片,分析了准分子激光能量密度和工作台移动速度对微通道加工质量(深度及粗糙度)的影响,加工过程中选择较低的激光能量密度和较高的工作台移...
5. 准分子激光工艺参数与修饰表面形貌的关系

作者：刘莹李小兵

刊名：微细加工技术

发表期刊： 2006年1期

页码: 20-22

摘要：利用准分子激光加工技术,以Al2O3陶瓷材料作为试件,构建表面微观形貌.采用表面形貌仪测量表面轮廓,用自行开发的表面形貌参数表征软件系统绘制轮廓曲线,研究准分子激光加工工艺参数与修饰表面微观...
6. 退火温度对SiC薄膜结构和光学特性的影响

作者：吴雪梅沙振东诸葛兰剑

刊名：微细加工技术

发表期刊： 2006年1期

页码: 23-26

摘要：采用磁控溅射技术在p-Si基片上制备出SiC薄膜.将样品放在管式退火炉中通N2保护,分别在400 ℃,600 ℃,800 ℃和1 000 ℃进行退火处理,研究了退火温度对薄膜结构以及光致发光...
7. PZT薄膜电滞回线测试的数值补偿研究

作者：吴亚雷朱龙洋褚家如许晓慧

刊名：微细加工技术

发表期刊： 2006年1期

页码: 27-31

摘要：通过Sawyer-Tower测试电路研究了铁电薄膜的电滞回线,发现薄膜漏电阻以及示波器输入电阻和电容的影响可能会使所测量的电滞回线发生形状扭曲或者使测量结果出现较大偏差,通过数值补偿方法重建...
8. 溅射法制备BST纳米薄膜电学性能的研究

作者：唐逸杨春生马骏

刊名：微细加工技术

发表期刊： 2006年1期

页码: 32-35

摘要：采用射频磁控溅射与微细加工技术,制得Cu/BST/Pt/Ti/SiO2/Si的MIM(金属-绝缘体-金属)微电容结构.研究了不同退火时间、薄膜厚度对钛酸锶钡(BST)纳米薄膜介电常数和漏电流...
9. 基于湿法刻蚀的MEMS压印模版制作

作者：丁玉成卢秉恒段玉岗王权岱

刊名：微细加工技术

发表期刊： 2006年1期

页码: 36-40,60

摘要：介绍了一种基于玻璃湿法刻蚀低成本的MEMS压印模版制作工艺,工艺中以单层光刻胶作为刻蚀掩模,重点研究了改善刻蚀图形几何轮廓和提高表面质量的方法.在对钻蚀形成机理进行分析的基础上,通过对比偶联...
10. 阵列式微型血红蛋白传感器的研制

作者：方昀施建颜国正

刊名：微细加工技术

发表期刊： 2006年1期

页码: 41-44

摘要：利用微加工和微装配技术研制了一种微型的阵列式血红蛋白传感器芯片.该传感器芯片非线性仅为3.67%,检测下限达0.1 mg/mL,同时在1 mg/mL浓度下的灵敏度达70 μA;在酸性条件下每...
11. 微悬臂梁结构氢气传感器的制作研究

作者：邱显涛陈吉安

刊名：微细加工技术

发表期刊： 2006年1期

页码: 45-47,64

摘要：提出了一种基于微悬臂梁结构的布拉格光栅氢气传感器,阐述了该类型传感器的工作原理及制作工艺流程,并利用MEMS技术制作了传感器样品,同时在-60 ℃～90 ℃、氢气浓度为0.5%～10%范围内...
12. 基于MEMS的条栅状微过滤器的设计与制作

作者：何林吴一辉宣明张平

刊名：微细加工技术

发表期刊： 2006年1期

页码: 48-51

摘要：为了满足微型全分析系统对样品分离的集成度要求,提出了一种新型的微分离技术.利用MEMS技术设计制作了一种条栅状的硅微结构的过滤器,线宽14 μm,周期40 μm.介绍了其制作工艺,并用碳化硒...
13. 基于MEMS的力传感器薄膜应变计加工工艺

作者：刘宏姜力王嘉力高晓辉

刊名：微细加工技术

发表期刊： 2006年1期

页码: 52-55

摘要：提出了在铝合金基体上磁控溅射80Ni20Cr薄膜电阻应变计的加工工艺,说明了其工艺的实现步骤.采用低弹性模量的铝合金制作力传感器的弹性体可以提高力/力矩传感器的灵敏度.提出了一种适合MEMS...
14. 场发射硅锥阵列的干法制备与研究

作者：叶枝灿吴茂松徐东王芸王莉蔡炳初钱开友

刊名：微细加工技术

发表期刊： 2006年1期

页码: 56-60

摘要：阐述了用于场发射压力传感器发射阴极的硅锥阵列的干法制备工艺,用反应离子刻蚀(RIE)的方法在76 mm(3 in.)的低阻硅片上制备出52个均匀分布的10×12的硅锥阵列,得到了曲率半径为2...
15. 微光机械振动传感器的设计与制作

作者：伦凤艳张平贾宏光高福斌

刊名：微细加工技术

发表期刊： 2006年1期

页码: 61-64

摘要：采用旋涂和干法刻蚀技术,制作了一种新型有机集成微光机械振动传感器,其主要结构是由在硅基上制作的聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)悬臂梁和光波导集成光路组成,探测光路采用强度调制型开环差分探测,利用...
16. CMOS工艺中钨的化学机械抛光技术

作者：张映斌李炳宗赵枫

刊名：微细加工技术

发表期刊： 2006年2期

页码: 1-4,24

摘要：介绍了深亚微米CMOS集成电路中研制的关键技术--钨化学机械抛光,比较了化学机械抛光技术与传统反应离子回刻法在金属层与层之间的垂直连接中的优缺点,并指出了钨化学机械抛光工艺中尚存的一些问题,...
17. CIF格式挖空多边形切割为PG3600格式矩形的算法

作者：李金儒汤跃科薛丽君陈宝钦

刊名：微细加工技术

发表期刊： 2006年2期

页码: 5-7,20

摘要：给出了一种微光刻图形CIF格式的中间挖空多边形切割成PG3600格式所需矩形的新算法.首先,用水平扫描线把有内环的多边形切割成三角形或梯形;然后,把三角形或梯形切割成矩形和直角三角形;最后,...
18. 电子束曝光模拟中电子弹性散射的新模型

作者：李艳秋赵国荣

刊名：微细加工技术

发表期刊： 2006年2期

页码: 8-11

摘要：传统的卢瑟福弹性散射模型不适用于描述电子和原子序数较高(Z＞4)的材料的弹性相互作用.给出一种模型,此模型采用Thomas-Fermi-Dirac(TFD)势能作为原子势,利用波恩近似法解薛...
19. 非线性曲线拟合法确定邻近效应参数

作者：宋会英张玉林郝慧娟魏强

刊名：微细加工技术

发表期刊： 2006年2期

页码: 12-15,20

摘要：为了更精确地确定邻近效应参数,借助优化的电子散射模型,利用改进的Monte Carlo算法模拟了电子束在固体中的散射过程,得到了不同曝光条件下抗蚀剂中的能量沉积分布.利用最小二乘非线性曲线拟...
20. 大角度离子注入机控制系统的研制

作者：伍三忠孙勇王迪平

刊名：微细加工技术

发表期刊： 2006年2期

页码: 16-20

摘要：介绍了大角度离子注入机控制系统的功能,重点介绍了系统的总体设计和控制模块的设计、主控计算机与子控制器之间的通讯以及控制系统的软件结构设计等.经实验证明,该控制系统稳定、可靠.
21. 采用弹性基底制作变间距光栅

作者：付绍军何世平叶超谢永军

刊名：微细加工技术

发表期刊： 2006年2期

页码: 21-24

摘要：提出了一种新的制作变间距光栅的方法,即利用软刻蚀在厚度变化的硅橡胶(PDMS)上制作等栅距的光栅结构,然后对其拉伸加载,使其成为变间距光栅.对所制作好的变间距光栅采用基于衍射原理的逐点扫描法...
22. 浸没式ArF光刻中杂散光影响的研究

作者：张飞李艳秋

刊名：微细加工技术

发表期刊： 2006年2期

页码: 25-29

摘要：由于浸没液体和大数值孔径的引入,杂散光对光刻性能的影响更为显著和复杂,对杂散光进行分析和控制是获得良好光刻性能的关键之一.利用Prolith 9.0软件研究了不同数值孔径(NA)条件下,浸没...
23. 三星授予凸版光掩模优秀供应商奖

作者：

刊名：微细加工技术

发表期刊： 2006年2期

页码: 29

摘要：
24. 空气等离子体刻蚀对金刚石薄膜性能的影响

作者：冉均国廖晓明李德贵苏葆辉苟立

刊名：微细加工技术

发表期刊： 2006年2期

页码: 30-32,48

摘要：为了提高金刚石薄膜电学和辐射响应性能,在石英钟罩式MPCVD装置中,采用微波空气等离子体刻蚀处理来提高金刚石薄膜的纯度、电阻率和辐射剂量计响应性能,研究了不同的微波功率、气体流量、处理时间对...
25. 射频磁控溅射法制备(111)取向Pt薄膜

作者：刘心宇成钧江民红顾正飞

刊名：微细加工技术

发表期刊： 2006年2期

页码: 33-36,44

摘要：以稀土元素Pr薄膜为缓冲层,采用低功率射频磁控溅射法在室温玻璃衬底上成功制备了(111)强烈取向的Pt薄膜,研究了退火热处理工艺对Pt薄膜择优取向及晶粒尺寸的影响规律,并对Pt(111)取向...
26. 高温氨化合成GaN微晶

作者：何建廷刘亦安吴玉新孙莉莉庄惠照王福学田德恒艾玉杰薛成山

刊名：微细加工技术

发表期刊： 2006年2期

页码: 37-40,44

摘要：分别利用Ga2O3粉末和Ga2O3凝胶作为Ga源,采用NH3为N源,在950℃下,分别将两种反应物与流动的NH3反应20 min合成了GaN微晶.用X射线衍射(XRD)、扫描电子显微镜(SE...
27. 基于MEMS的双功能温控芯片的设计与制作

作者：刘利娜吴一辉王淑荣贾宏光

刊名：微细加工技术

发表期刊： 2006年2期

页码: 41-44

摘要：为满足微全分析系统集成化的发展要求,设计制造了一种微型温控芯片.该芯片以硅为基底,采用MEMS工艺集成了加热和温度传感双重功能.介绍了芯片的制作工艺,并对加热器和温度传感器的性能进行测试和分...
28. (110)硅基MEMS光开关光纤定位槽的设计

作者：周敬然徐宝琨王丹臧会东董玮贾翠萍陈维友

刊名：微细加工技术

发表期刊： 2006年2期

页码: 45-48

摘要：利用KOH溶液腐蚀在(110)硅片上制作2×2 MEMS光开关,微反射镜表面光滑且垂直度较好,其质量高于用同样方法在(100)硅片上制作的反射镜,但是却存在自对准V型槽难以实现的问题.依据(...
29. 一种PDMS微混合器的制备及性能分析

作者：吴一辉宣明张平李淑娴王淑荣贾宏光

刊名：微细加工技术

发表期刊： 2006年2期

页码: 49-53

摘要：介绍了一种用于微生化分析仪的PDMS(polydimethylsiloxane,聚二甲基硅氧烷)微混合器的模压制备,由于其兼有混合器与比色皿的功能,因此,对其透光及混合性能进行了分析.经实验...
30. 微反应器中的微制作技术

作者：于新海姚华堂涂善东王正东

刊名：微细加工技术

发表期刊： 2006年2期

页码: 54-60

摘要：探讨了微反应器制作技术的创新与优化,分析了微反应器的基本结构与常用材料,总结了它的三种主要加工技术,即硅体微加工、超精密加工与LIGA工艺,以及四种常用的连接方法,即键合技术、高能束焊接、扩...

微细加工技术基本信息

刊名	微细加工技术	主编
曾用名
主办单位	中国电子科技集团公司第48研究所	主管单位
出版周期	双月刊	语种	chi
ISSN	1003-8213	CN	43-1140/TN
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