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VLSI金属化互连可靠性的快速评价技术
VLSI金属化互连可靠性的快速评价技术
作者:
吴文章
孔学东
孙青
徐征
扬文
焦慧芳
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
晶片级
电迁移
标准晶片级加速寿命试验
参数确定
摘要:
深入探讨了标准晶片级电迁移加速试验方法(SWEAT试验方法)的试验原理、试验系统的建立、试验步骤及试验结果的分析等,并将在实践中总结出的试验经验和技巧介绍给大家。同时将该方法应用到生产实际,为工艺可靠性监测、研究电迁移失效机理与关键工艺的相关关系提供了有效手段。
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文献信息
篇名
VLSI金属化互连可靠性的快速评价技术
来源期刊
固体电子学研究与进展
学科
工学
关键词
晶片级
电迁移
标准晶片级加速寿命试验
参数确定
年,卷(期)
2001,(1)
所属期刊栏目
研究方向
页码范围
75-81
页数
7页
分类号
TN406
字数
4638字
语种
中文
DOI
10.3969/j.issn.1000-3819.2001.01.013
五维指标
作者信息
序号
姓名
单位
发文数
被引次数
H指数
G指数
1
焦慧芳
16
86
6.0
8.0
2
孔学东
16
184
6.0
13.0
3
孙青
1
5
1.0
1.0
4
吴文章
4
25
3.0
4.0
5
扬文
中国华晶集团公司中央研究所
1
5
1.0
1.0
6
徐征
中国华晶集团公司中央研究所
2
5
1.0
2.0
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(0)
二级引证文献
(7)
1969(1)
参考文献(1)
二级参考文献(0)
2001(0)
参考文献(0)
二级参考文献(0)
引证文献(0)
二级引证文献(0)
2004(1)
引证文献(1)
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2008(2)
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2009(1)
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2014(1)
引证文献(0)
二级引证文献(1)
2017(2)
引证文献(0)
二级引证文献(2)
研究主题发展历程
节点文献
晶片级
电迁移
标准晶片级加速寿命试验
参数确定
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
固体电子学研究与进展
主办单位:
南京电子器件研究所
出版周期:
双月刊
ISSN:
1000-3819
CN:
32-1110/TN
开本:
大16开
出版地:
南京市1601信箱43分箱(南京市中山东路524号)
邮发代号:
创刊时间:
1981
语种:
chi
出版文献量(篇)
2483
总下载数(次)
5
总被引数(次)
9851
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