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摘要:
采用恒定功耗高温加速的试验方法,搭建了相关的试验系统,对高温工作寿命试验(HTOL)方法在功率GaAs MMIC领域的应用进行了一些探索.试验获得了对失效机理进行分析所需的失效数,所有样品的失效都是由同一原因引起的.通过监测数据和失效样品的分析,发现存在欧姆接触退化与栅金属下沉两种失效机理,但最终引起失效的机理单一,为栅金属下沉.
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文献信息
篇名 MMIC高温工作加速寿命试验失效机理分析
来源期刊 固体电子学研究与进展 学科 工学
关键词 砷化镓 微波单片集成电路 赝配高电子迁移率晶体管 高温工作寿命 失效分析
年,卷(期) 2012,(6) 所属期刊栏目 器件物理与器件模拟
研究方向 页码范围 542-547
页数 6页 分类号 TN386|TN43
字数 3552字 语种 中文
DOI
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 高建峰 23 98 7.0 9.0
2 黄念宁 13 32 4.0 5.0
3 林罡 15 107 5.0 10.0
7 贾东铭 2 9 2.0 2.0
8 耿涛 4 16 2.0 4.0
9 徐波 3 6 1.0 2.0
10 薛静 1 6 1.0 1.0
11 金毓铨 5 19 3.0 4.0
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研究主题发展历程
节点文献
砷化镓
微波单片集成电路
赝配高电子迁移率晶体管
高温工作寿命
失效分析
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
固体电子学研究与进展
双月刊
1000-3819
32-1110/TN
大16开
南京市1601信箱43分箱(南京市中山东路524号)
1981
chi
出版文献量(篇)
2483
总下载数(次)
5
总被引数(次)
9851
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