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应用于裸芯片去污的气相清洗技术
应用于裸芯片去污的气相清洗技术
作者:
林文海
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
气相清洗
硅裸芯片
砷化镓裸芯片
金丝性能
摘要:
军用和民用微型电子产品的MCM、HIC等复杂混合电路正在越来越多地采用裸芯片,然而,裸芯片由于尺寸小、电路密集、焊盘间距小等原因,在进行组装的过程中一旦有微量的污染物出现,就会对裸芯片的应用造成较大影响。气相清洗通过清洗溶剂蒸汽在组件表面冷凝,形成液体滴下带走污染物,避免了传统的通过机械力、超声振动等清洗方式对裸芯片造成的不可修复的损伤。对限幅二极管砷化镓裸芯片、硅基裸芯片进行气相清洗,有效除去裸芯片表面的污染物,具有无损高效的特点。
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应用于雷达TR组件微组装中的气相清洗技术
气相清洗
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文献信息
篇名
应用于裸芯片去污的气相清洗技术
来源期刊
电子工艺技术
学科
工学
关键词
气相清洗
硅裸芯片
砷化镓裸芯片
金丝性能
年,卷(期)
2014,(2)
所属期刊栏目
微组装 SMT PCB
研究方向
页码范围
84-87
页数
4页
分类号
TN605
字数
3583字
语种
中文
DOI
五维指标
作者信息
序号
姓名
单位
发文数
被引次数
H指数
G指数
1
林文海
中国电子科技集团公司第三十八研究所
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传播情况
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引文网络
引文网络
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研究主题发展历程
节点文献
气相清洗
硅裸芯片
砷化镓裸芯片
金丝性能
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
电子工艺技术
主办单位:
中国电子科技集团公司第二研究所
出版周期:
双月刊
ISSN:
1001-3474
CN:
14-1136/TN
开本:
大16开
出版地:
太原市115信箱
邮发代号:
22-52
创刊时间:
1980
语种:
chi
出版文献量(篇)
2306
总下载数(次)
10
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