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芯片级集成射频垂直互连技术
芯片级集成射频垂直互连技术
作者:
刘志辉
向伟玮
王辉
陆吟泉
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
2.5D/3D集成
芯片级集成
射频互连
垂直互连
摘要:
随着电子装备向小型化、轻量化和多功能化方向发展,其内部电子部件/组件集成密度要求不断提升,传统的2D集成密度已接近极限,2.5D/3D集成必将成为新一代电子部件/组件的主流形态。射频垂直互连技术是2.5D/3D集成射频系统的关键技术之一。对芯片级集成射频垂直互连技术的发展动态及应用前景进行了综述。
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文献信息
篇名
芯片级集成射频垂直互连技术
来源期刊
电子工艺技术
学科
工学
关键词
2.5D/3D集成
芯片级集成
射频互连
垂直互连
年,卷(期)
2016,(6)
所属期刊栏目
微系统技术
研究方向
页码范围
320-322,326
页数
4页
分类号
TN45
字数
1167字
语种
中文
DOI
10.14176/j.issn.1001-3474.2016.06.003
五维指标
作者信息
序号
姓名
单位
发文数
被引次数
H指数
G指数
1
王辉
中国电子科技集团公司第二十九研究所
53
189
8.0
12.0
2
刘志辉
中国电子科技集团公司第二十九研究所
7
42
4.0
6.0
3
向伟玮
中国电子科技集团公司第二十九研究所
5
18
3.0
4.0
4
陆吟泉
中国电子科技集团公司第二十九研究所
2
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2.0
2.0
传播情况
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2006(1)
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参考文献(2)
二级参考文献(0)
2015(2)
参考文献(2)
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二级引证文献(0)
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二级引证文献(0)
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引证文献(2)
二级引证文献(0)
2020(3)
引证文献(0)
二级引证文献(3)
研究主题发展历程
节点文献
2.5D/3D集成
芯片级集成
射频互连
垂直互连
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
电子工艺技术
主办单位:
中国电子科技集团公司第二研究所
出版周期:
双月刊
ISSN:
1001-3474
CN:
14-1136/TN
开本:
大16开
出版地:
太原市115信箱
邮发代号:
22-52
创刊时间:
1980
语种:
chi
出版文献量(篇)
2306
总下载数(次)
10
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