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LTCC层压工艺对表面形貌的影响
LTCC层压工艺对表面形貌的影响
作者:
刘建军
王运龙
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
低温共烧陶瓷
层压
表面形貌
摘要:
鉴于LTCC表面形貌对多芯片组件元器件安装和微波信号传输的重要影响,分析了层压过程中隔离膜、金属掩模板和嵌件对表面形貌的影响规律.工艺实验结果表明,优选的隔离膜材料可以降低LTCC介质及导体表面粗糙度.通过金属掩模板可以改变层压压力分布状态,等静压到单轴静压的转变可以有效降低导体电路图形凸起.嵌件的应用可以有效提高腔体层压保形能力.
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文献信息
篇名
LTCC层压工艺对表面形貌的影响
来源期刊
电子工艺技术
学科
工学
关键词
低温共烧陶瓷
层压
表面形貌
年,卷(期)
2018,(1)
所属期刊栏目
微组装技术SMT PCB
研究方向
页码范围
15-18,36,45
页数
6页
分类号
TN605
字数
3865字
语种
中文
DOI
10.14176/j.issn.1001-3474.2018.01.005
五维指标
作者信息
序号
姓名
单位
发文数
被引次数
H指数
G指数
1
刘建军
中国电子科技集团公司第三十八研究所
19
18
2.0
2.0
2
王运龙
中国电子科技集团公司第三十八研究所
7
9
2.0
2.0
传播情况
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2018(2)
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2019(1)
引证文献(1)
二级引证文献(0)
研究主题发展历程
节点文献
低温共烧陶瓷
层压
表面形貌
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
电子工艺技术
主办单位:
中国电子科技集团公司第二研究所
出版周期:
双月刊
ISSN:
1001-3474
CN:
14-1136/TN
开本:
大16开
出版地:
太原市115信箱
邮发代号:
22-52
创刊时间:
1980
语种:
chi
出版文献量(篇)
2306
总下载数(次)
10
总被引数(次)
14508
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