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摘要:
详述了目前用于深亚微米CMOS IC的静电放电(ESD)保护方法,比较了它们各自的特点,并详细阐述了栅耦合PMOS触发/NMOS触发横向可控硅(PTLSCR/NTLSCR)ESD保护电路的工作原理.
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文献信息
篇名 深亚微米低压CMOS IC的ESD保护方法
来源期刊 半导体技术 学科 工学
关键词 深亚微米低压CMOS IC ESD保护电路
年,卷(期) 1999,(3) 所属期刊栏目 器件可靠性
研究方向 页码范围 45-49
页数 5页 分类号 TN3
字数 2723字 语种 中文
DOI 10.3969/j.issn.1003-353X.1999.03.010
五维指标
作者信息
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节点文献
深亚微米低压CMOS
IC
ESD保护电路
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
半导体技术
月刊
1003-353X
13-1109/TN
大16开
石家庄179信箱46分箱
18-65
1976
chi
出版文献量(篇)
5044
总下载数(次)
38
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