用光学传输矩阵模拟光致抗蚀剂中的驻波效应

• 作者: 杨华中 汪蕙 范建兴
• 来源期刊: 固体电子学研究与进展
• 学科: 工学
• 关键词: 集成电路工艺计算机辅助设计 光学传输矩阵 抗蚀剂曝光 驻波 数值收敛
• 年，卷（期）: 2002,（3）
• 所属期刊栏目: 材料与工艺
• 页码范围: 361-366
• 页数: 6页
• 分类号: TN405.98+5
• 字数: 5051字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1000-3819.2002.03.025

摘要

抗蚀剂曝光的模拟与光刻系统空间像模拟紧密相连,一般是用标量衍射方法在特殊几何形状的光源分布和特殊掩模结构的条件下计算的,实质是一定边界条件和初始条件下Maxwell方程组的求解.驻波是曝光中的寄生效应,是光线垂直入射到不同的平行平面介质层之间,经多次反射并干涉形成的.驻波的边界条件是平行界面上电磁场矢量的连续.在这种条件下对驻波的描述有BERNING的多层光学薄膜模型和MACK的膜层递推解析模型.文中用传统的光学传输矩阵模型来描述,建立了简洁有效的迭代算法,分析了该算法的收敛性,并编制出相应的计算程序,给出了计算结果.