0.25μm高精度T型栅制作工艺研究

• 作者: 付兴昌 孙希国 崔玉兴
• 来源期刊: 电子工艺技术
• 学科: 工学
• 关键词: 双层胶 i线 Relacs工艺 光刻 T型栅
• 年，卷（期）: 2015,（4）
• 所属期刊栏目: SMT PCB
• 页码范围: 222-224
• 页数: 3页
• 分类号: TN454
• 字数: 2119字
• 语种: 中文
• DOI: 10.14176/j.issn.1001-3474.2015.04.010

摘要

基于双层胶i线光刻工艺，对0.25μm T型栅制作技术进行了优化，采用Relacs工艺处理方法缩短了栅长，满足了栅长精度要求，通过工艺优化解决了双层胶之间不同胶层间的互溶问题。通过优化制作流程，形成了工艺规范，解决了工艺中存在的一致性及稳定性差的问题，最终采用双层胶工艺制作成功形貌良好的0.25μm高精度T型栅。工艺优化结果表明，与其他0.25μm T型栅制作工艺方法相比，双层胶i线光刻工艺具有制作效率高和精度高的优点，基于其制作的T型栅结构有利于金属淀积和剥离，栅根及栅帽形貌良好，为GaAs及GaN 微波器件及MMIC制作提供了可靠的工艺技术。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	付兴昌		4	4	1.0	1.0
2	崔玉兴		4	3	1.0	1.0
3	孙希国		1	0	0.0	0.0