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摘要:
用X射线双晶衍射方法对MBE方法生长的InGaAs/GaAs量子阱结构材料进行了测试分析.结果表明,在材料生长过程中,深能级的引入严重影响了材料的光学特性及界面完整性.通过改变衬底温度、V/Ⅲ速流比等实验条件,得到了质量较好的材料.同时对实验样品的双晶衍射回摆曲线中干涉条纹及峰的劈裂现象进行了理论分析.
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文献信息
篇名 用X双晶衍射法研究InGaAs/GaAs量子阱结构
来源期刊 半导体技术 学科 物理学
关键词 分子束外延 超晶格半导体 X射线双晶衍射
年,卷(期) 2006,(2) 所属期刊栏目 技术专栏(新型半导体材料)
研究方向 页码范围 105-107
页数 3页 分类号 O434.1|O47
字数 1769字 语种 中文
DOI 10.3969/j.issn.1003-353X.2006.02.008
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 张文栋 中北大学仪器科学与动态测试教育部重点实验室 167 1172 16.0 26.0
2 薛晨阳 中北大学仪器科学与动态测试教育部重点实验室 136 765 14.0 21.0
3 张斌珍 中北大学仪器科学与动态测试教育部重点实验室 107 535 12.0 18.0
4 杨艳 中北大学仪器科学与动态测试教育部重点实验室 25 87 5.0 8.0
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研究主题发展历程
节点文献
分子束外延
超晶格半导体
X射线双晶衍射
研究起点
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半导体技术
月刊
1003-353X
13-1109/TN
大16开
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18-65
1976
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