基于ITO玻璃基板的涂胶工艺研究

• 作者: 崔晓改 李庆亮 王伟民 王敏 赵晓东
• 来源期刊: 电子工艺技术
• 学科: 工学
• 关键词: ITO玻璃基板 光刻胶 涂胶厚度 涂胶均匀性 涂胶缺陷
• 年，卷（期）: 2010,（4）
• 页码范围: 237-240
• 分类号: TN873
• 字数: 2947字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-3474.2010.04.014

摘要

光刻胶涂布的厚度和均匀性直接影响细微光刻电路图形的精度,对电子产品的集成度和合格率有着极为重要的影响.基于ITO玻璃基板涂胶工艺实验,研究了影响涂胶厚度和涂胶均匀性的各种因素,包括光刻胶黏度、涂胶辊表面结构、胶辊压入量和涂胶速度等.针对几种常见的典型涂胶缺陷进行了研究分析,并制定了相应的解决对策.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	王敏	中国电子科技集团公司第二研究所	22	45	4.0	6.0
2	李庆亮	中国电子科技集团公司第二研究所	4	18	2.0	4.0
3	王伟民	中国电子科技集团公司第二研究所	2	12	1.0	2.0
4	赵晓东	中国电子科技集团公司第二研究所	5	119	3.0	5.0
5	崔晓改	中国电子科技集团公司第二研究所	5	14	2.0	3.0