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摘要:
生长了短周期AlGaAs/GaAs超晶格,并通过双晶X射线衍射谱,对MOCVD超薄层AlGaAs、GaAs的生长进行了研究.从衍射谱卫星峰的级数及Pendell?song干涉条纹的出现,定性地对晶格结构及界面作出评价.X光衍射测量结果与HEMT结构电学性能测试结果有较好的对应关系.
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文献信息
篇名 短周期AlGaAs/GaAs超晶格的MOCVD生长及X射线衍射研究
来源期刊 固体电子学研究与进展 学科 工学
关键词 金属有机物化学汽相淀积 超晶格 X射线衍射
年,卷(期) 2000,(2) 所属期刊栏目
研究方向 页码范围 212-215
页数 4页 分类号 TN304.054
字数 1313字 语种 中文
DOI 10.3969/j.issn.1000-3819.2000.02.013
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 王向武 11 24 2.0 4.0
2 程祺祥 2 6 1.0 2.0
传播情况
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2020(1)
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  • 二级引证文献(0)
研究主题发展历程
节点文献
金属有机物化学汽相淀积
超晶格
X射线衍射
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
固体电子学研究与进展
双月刊
1000-3819
32-1110/TN
大16开
南京市1601信箱43分箱(南京市中山东路524号)
1981
chi
出版文献量(篇)
2483
总下载数(次)
5
总被引数(次)
9851
论文1v1指导