半导体学报(英文版)期刊
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半导体学报(英文版)

Journal of Semiconductors
曾用名: 半导体学报

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影响因子 0.2430
本学报是由中国电子学会主办,中国科学院半导体研究所承办的学术刊物,报道半导体物理学和半导体科学技术领域内最新的科研成果和技术进展,被EI、CA、SA等收录,在中国科学院、国家科委、中共中央宣传部和国家新闻出版署的期刊评比中多次获奖。主要栏目有:研究快报、研究论文、研究简报、技术进展等。
主办单位:
中国电子学会和中国科学院半导体研究所
期刊荣誉:
中科院优秀期刊二等奖(90)  全国优秀期刊三等奖(92)  全国优秀期刊三等奖(97) 
ISSN:
1674-4926
CN:
11-5781/TN
出版周期:
月刊
邮编:
100083
地址:
北京912信箱
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  • 作者: 徐应强 李联合 杜云 林耀望 潘钟
    发表期刊: 2001年9期
    页码:  1097-1101
    摘要: 采用分子束外延方法研究了高应变InGaAs/GaAs量子阱的生长技术.将InGaAs/GaAs量子阱的室温光致发光波长拓展至1160nm,其光致发光峰半峰宽只有22meV.研制出1120nm...
  • 作者: 何进 张兴
    发表期刊: 2001年9期
    页码:  1102-1106
    摘要: 提出了RESURF LDMOS功率器件的表面电场分布和击穿电压的解析模型.根据二维泊松方程的求解,得到了与器件参数和偏压相关的表面电场和电势分布解析表达式.在此基础上,推出了为获得击穿电压和...
  • 作者: 刘晓彦 康晋锋 朱晖文 沈超 韩汝琦
    发表期刊: 2001年9期
    页码:  1107-1111
    摘要: 用二维模拟软件ISE研究了典型的70nm高K介质MOSFETs的短沟性能.结果表明,由于FIBL效应,随着栅介质介电常数的增大,阈值电区减小,而漏电流和亚阈值摆幅增大,导致器件短沟性能退化....
  • 作者: 冯小明 刘宗顺 张敬明 方高瞻 王仲明 王晓薇 肖建伟 马骁宇
    发表期刊: 2001年9期
    页码:  1112-1115
    摘要: 将条宽为100μm,有源区厚度为1μm的大功率激光二极管(LD)的输出光束高效地耦合到芯径是50μm的多模光纤中,得到了高亮度、高功率密度的光纤输出.功率密度高达3.6×104W/cm2,耦...
  • 作者: 叶志镇 王亚东 赵炳辉 黄靖云
    发表期刊: 2001年9期
    页码:  1116-1118
    摘要: 采用量子尺寸的多孔硅作为衬底,利用区域优先成核在多孔硅表面上成功地生长了Ge量子点.由于量子限制效应锗的PL谱发生了明显的蓝移,计算表明在傅里叶红外光谱中观察到的中红外(5-6μm)吸收峰是...
  • 作者: 叶志镇 王亚东 赵炳辉 黄靖云
    发表期刊: 2001年9期
    页码:  1119-1121
    摘要: 利用椭圆偏振仪(EL)、傅里叶红外光谱(FTIR)研究了Si1-x-yGexCy合金分别在900℃和1000℃干氧气氛下形成氧化物的生长动力学.结果表明:在900℃氧化时,随着合金中的替代碳...
  • 作者: 张利春 金海岩
    发表期刊: 2001年9期
    页码:  1122-1126
    摘要: 提出了锗硅材料禁带宽度随锗含量、温度及掺杂浓度变化的经验公式,改善了以往经验公式局限性较大的缺点,拓宽了公式的使用范围.分析并计算了不同温度、掺杂浓度以及不同材料的禁带变窄量,与实验数据进行...
  • 作者: 熊卫华 熊祖洪 陆日方
    发表期刊: 2001年9期
    页码:  1127-1130
    摘要: 利用光电流谱对全硅基多孔硅微腔的吸收特性进行了研究,在光电流谱中观察到λ1=742nm主峰.同时也对多孔硅微腔的PL谱和单层多孔硅的光电流谱进行了测量,结合有效折射率方法和菲涅耳公式,对照P...
  • 作者: 吴兴龙 沈今楷 袁仁宽 谭超 鲍希茂
    发表期刊: 2001年9期
    页码:  1131-1134
    摘要: Ge-SiO2共溅射薄膜分别在O2、N2和空气中退火后,在Xe灯250nm线激发下,均观测到位于400和300nm的紫、紫外光发射(PL).傅里叶变换红外吸收谱(FT-IR)表明,这两个PL...
  • 作者: 姜景和 张正选 王桂珍 罗尹虹
    发表期刊: 2001年9期
    页码:  1135-1138
    摘要: 用一种比较简单的Jaffe近似方法计算了质子在SiO2中的电子空穴对的逃逸率,讨论了辐照偏置、电场、质子入射角度、质子能量等对逃逸产额的影响.得到了电子空穴对复合逃逸率与质子能量、电场成正比...
  • 作者: 于丰亮 宋芳 朱世富 李奇峰 王雪敏 赵北君 邵双运 金应荣
    发表期刊: 2001年9期
    页码:  1139-1142
    摘要: 用改进的垂直气相法生长的富镉CdSe单晶,其电阻率为107Ω*cm量级,电子陷阱浓度为108cm-3量级,且能将注入其中的部分电荷储存起来.分析认为,晶体的高电阻率及储存电荷的能力都是由Se...
  • 作者: 卫建林 张贺秋 毛凌锋 穆甫臣 许铭真 谭长华
    发表期刊: 2001年9期
    页码:  1143-1146
    摘要: 研究了粗糙界面对电子隧穿超薄栅金属-氧化物-半导体场效应晶体管的氧化层的影响.对于栅厚为3nm的超薄栅MOS结构的界面用高斯粗糙面进行模拟来获取界面粗糙度对直接隧穿电流的影响,数值模拟的结果...
  • 作者: 卜伟海 张兴 徐文华 黄如
    发表期刊: 2001年9期
    页码:  1147-1153
    摘要: 针对SOI器件中的瞬态浮体效应进行了一系列的数值模拟,通过改变器件参数,比较系统地考察了SOI器件中瞬态浮体效应,同时也研究和分析了瞬态浮体效应对CMOS/SOI电路(以环振电路为例)的影响...
  • 作者: 万新恒 张兴 王阳元 甘学温 黄如
    发表期刊: 2001年9期
    页码:  1154-1159
    摘要: 报道了一个含总剂量辐照效应的SOI MOSFET统一模型.该模型能自动计入体耗尽条件,不需要分类考虑不同膜厚时的情况.模型计算结果与实验吻合较好.该模型物理意义明确,参数提取方便,适合于抗辐...
  • 作者: 于春利 吕红亮 张义门 张玉明 杨林安
    发表期刊: 2001年9期
    页码:  1160-1164
    摘要: 根据4H-SiC高饱和电子漂移速度和常温下杂质不完全离化的特点,对适用于Si和GaAs MESFET的直流I-V特性理论进行了分析与修正.采用高场下载流子速度饱和理论,以双曲正切函数作为表征...
  • 作者: 张义门 张同意 张玉明 石顺祥 龚仁喜
    发表期刊: 2001年9期
    页码:  1165-1170
    摘要: 通过建立半绝缘GaAs光导开关(PCSS's)的瞬态二维模型,获得了不同偏置条件下器件内电场、电流密度等电参量的空间分布及器件中最大电场和输出电流随时间的变化关系.所获得的主要特性与实验观察...
  • 作者: 吴霞宛 张世林 梁惠来 毛陆虹 牛萍娟 郭维廉
    发表期刊: 2001年9期
    页码:  1171-1175
    摘要: 研制成的在常温下工作的谐振隧穿二极管(RTD),峰谷比达到了5∶1,最高振荡频率为26.3GHz.采用基于物理意义的电流-电压方程,利用通用电路模拟软件PSPICE,建立了其直流电路模型,模...
  • 作者: 俞钢 吴春亚 周祯华 杨恢东 熊绍珍 王跃 赵颖 郝云 陈有素
    发表期刊: 2001年9期
    页码:  1176-1181
    摘要: 对聚合物发光二极管I-V特性的测量发现,被测器件内存在着类似于某些无机器件中的负阻现象和"迟滞回线”状场致漂移的伏安特性.模拟分析表明,一种反向势垒的存在及其击穿,应是引起负阻现象的原因.缺...
  • 作者: A.Boisen J.THAYSEN O.HANSEN 于晓梅 江兴流
    发表期刊: 2001年9期
    页码:  1182-1187
    摘要: 从理论和实验上系统地讨论了压阻输出微传感器的噪声.选用了单晶硅、非晶硅、多晶硅和微晶硅四种材料作为压阻材料,设计了16种不同尺寸的力敏Wheastone电桥,并对器件分别进行了两种不同浓度的...
  • 作者: 李明月 杨增敏 潘宏菽 贾宏勇 钱佩信 陈培毅 黄杰
    发表期刊: 2001年9期
    页码:  1188-1190
    摘要: 给出了低电压微波SiGe功率异质结双极型晶体管(HBT)的器件结构和测试结果.器件结构适于低压大电流状态下应用.采用了梳状发射极条的横向版图设计,其工作电压为3-4V.在C类工作状态,1GH...
  • 作者: 池保勇 石秉学
    发表期刊: 2001年9期
    页码:  1191-1196
    摘要: 提出了一种改进的高精度电流型排序电路.它的结构复杂性仅为O(N),便于扩展;动态范围大;它是自适应的,工作点由输入电流确定,故不需要偏置信号,这对作为通用器件使用的排序电路来说是很重要的.通...
  • 作者: 周蓉 张庆中 胡思福
    发表期刊: 2001年9期
    页码:  1197-1201
    摘要: 给出一种新的RF功率器件结构-梳状基区结构.在不增加本征集电结面积的情况下,该结构能显著改善RF功率晶体管散热特性,增大器件的耗散功率和输出功率,较好地缓解了传统结构中高工作频率与大输出功率...
  • 作者: 李华伟 牛文成 谢建湘 那兴波
    发表期刊: 2001年9期
    页码:  1202-1206
    摘要: 研制了一种基于FET结构的Pt-LaF3混合膜全固态溶解氧传感器.对Pt-LaF3敏感膜的敏感机制以及传感器的器件结构和响应特性进行了分析,并实际测试了器件特性,给出了在不同工作点和不同温度...
  • 作者: 叶红飞 宁宝俊 张利春 张广勤 罗葵 莫邦燹 金海岩 高玉芝
    发表期刊: 2001年9期
    页码:  1207-1211
    摘要: 研究了掺磷双层多晶硅RCA器件和电路的制备工艺及其温度特性.在工艺中采用自对准双极结构,生长一层RCA超薄氧化层,并用快速热退火处理RCA氧化层.研制的多晶硅发射区RCA晶体管不仅具有较低的...
  • 作者: 寇芸 郝跃 马佩军
    发表期刊: 2001年9期
    页码:  1212-1216
    摘要: 从故障机理上研究了现有的
  • 作者: 孙长征 李宁 罗毅 郝智彪 韩彦军
    发表期刊: 2001年9期
    页码:  1217-1221
    摘要: 研究了InP/InP的直接键合技术,给出了详细的InP/InP键合样品的电特性随健合工艺条件变化的数据,在低于650℃的键合温度下实现了InP/InP大面积的均匀直接键合,获得了与单晶InP...
  • 作者: 刘文楷 廖奇为 朱家廉 林世鸣 武术 渠波 邓晖 陆建祖 陈弘达 高俊华
    发表期刊: 2001年9期
    页码:  1222-1225
    摘要: 采用BCl3和Ar作为刻蚀气体对GaAs、AlAs、DBR反应离子刻蚀的速率进行了研究,通过控制反应的压强、功率、气体流量和气体组分达到对刻蚀速率的控制.实验结果表明:在同样条件下GaAs刻...
  • 作者: 于新好 刘忠立 曹宝成 马洪磊 马瑾
    发表期刊: 2001年9期
    页码:  1226-1229
    摘要: 目前半导体工业生产中普遍采用的清洗技术是RCA清洗技术.文中介绍了一种含表面活性剂和螯合剂的新型半导体清洗剂和清洗技术.并利用X射线光电子谱和原子力显微镜等测试方法,分别比较了用两种清洗技术...

半导体学报(英文版)基本信息

刊名 半导体学报(英文版) 主编 王守武
曾用名 半导体学报
主办单位 中国电子学会和中国科学院半导体研究所  主管单位 中国科学院
出版周期 月刊 语种
eng
ISSN 1674-4926 CN 11-5781/TN
邮编 100083 电子邮箱 jos@semi.ac.cn
电话 010-82304277 网址 www.jos.ac.cn
地址 北京912信箱

半导体学报(英文版)评价信息

期刊荣誉
1. 中科院优秀期刊二等奖(90)
2. 全国优秀期刊三等奖(92)
3. 全国优秀期刊三等奖(97)

半导体学报(英文版)统计分析

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